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產品特點：
1、控制電路選用模糊PID程控技術，該技術控溫精度高，熱慣性小，溫度不過沖，性能可靠，操作簡單。
2、中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動控制功能，高真空系統(tǒng)采用高壓強，耐沖擊分子泵
防止意外漏氣造成分子泵損壞，延長系統(tǒng)使用壽命。

產品用途：
此款三溫區(qū)CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結等實驗。

產品詳情：

名稱		高溫三溫區(qū)CVD設備
型號		KJ-OTF-1700-F5
加熱系統(tǒng)	顯示	LED
	溫度	1700℃
	工作溫度	≤1600℃
	升溫速率	0~15℃/min
	溫區(qū)	3
	溫區(qū)長度	220mm
	加熱元件	MoSi2 棒
	熱電偶	B型
	控溫精度	±1℃
	管尺寸	80 x 1400mm
	管尺寸	材質：氧化鋁
	溫度控制	PID自動控制
	溫控方式	30段可編程
	真空計	復合真空計
	真空法蘭	帶閥門和針頭的不銹鋼真空法蘭
	電壓/功率	220V, 50 Hz, 10KW
真空泵系統(tǒng)	真空泵組（旋片泵+擴散泵）包括 KF25、KF50 適配器、真空泵組波紋管和帶輪移動柜。	冷態(tài)極限真空6.67*10-3Pa。
質量流量計（5氣路）	流量范圍	(20, 30, 50, 100, 200, 300, 500) SCCM
	準確性	±1.5 % F.S.
	重復精度	±1.5 % F.S.
	響應時間	≦10sec
	工作壓差范圍	0.1~0.5MPa
	耐壓性	3MPa
	溫度系數(shù)	零: ≤±0.2% F.S./℃; 跨度: ≤±0.2% F.S./℃
	工作環(huán)境溫度	5~45℃
	輸入信號	0 V ~ +5.00 V
	輸出信號	0 V ~ +5.00 V
	電插頭形式	DB15針（母）

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