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深圳華普通用科技有限公司
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德國蔡司Sigma 系列產品用于高品質成像與高級分析的場發(fā)射掃描電子顯微鏡
將高級的分析性能與場發(fā)射掃描技術相結合，利用成熟的 Gemini 電子光學元件。多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma 半自動的4步工作流程節(jié)省大量的時間：設置成像與分析步驟，提高效率。
利用*探測術為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。
利用 in-lens 雙探測器獲取形貌和成份信息。
利用新一代的二次探測器，獲取高達50%的信號圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創(chuàng)新的 C2D 和 可變壓力探測器，在低真空環(huán)境下獲取高達85%對比度的銳利的圖像。
4步工作流程讓您控制 Sigma 的所有功能。在多用戶環(huán)境中，從快速成像和節(jié)省培訓首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。
首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。
接下來對樣品感興趣的區(qū)域進行優(yōu)化并自動采集圖像。最后使用工作流程的步，將結果可視化。
將掃描電子顯微鏡與基本分析相結合：Sigma 的背散射幾何探測器大大提升了分析性能，特別是對電子束敏感的樣品。
在一半的檢測束流和兩倍的速度條件下獲取分析數據。
獲益于8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角，獲取完整且無陰影的分析結果。
Gemini 鏡頭的設計結合考慮了電場與磁場對光學性能的影響，并將場對樣品的影響降至更低。這使得即使對磁性樣品成像也能獲得出色的效果。
Gemini in-lens 的探測確保了信號探測的效率，通過二次檢測(SE)和背散射(BSE)元件同時減少成像時間。
Gemini 電子束加速器技術確保了小的探測器尺寸和高的信噪比。
利用新的探測技術表征所有的樣品。
在高真空模式下利用創(chuàng)新的 ETSE 和 in-lens 探測器獲取形貌和高分辨率的信息。
在可變壓力模式下利用可變壓力二次電子和 C2D 探測器獲取銳利的圖像。
利用 aSTEM 探測器生成高分率透射圖像。
利用 BSD 或者 YAG 探測器進行成份分析。
如果單采用SEM成像技術無法全面了解部件或樣品，研究人員就需要在SEM中采用能譜儀（EDS）來進行顯微分析。通過針對低電壓應用而優(yōu)化的能譜解決方案，您可以獲得元素化學成分的空間分布信息。得益于：
優(yōu)化了常規(guī)的顯微分析應用，并且由于氮化硅窗口優(yōu)秀的透過率，可以探測輕元素的低能X射線。
工作流程引導的圖形用戶界面極大地改善了易用性，以及多用戶環(huán)境中的重復性。
完整的服務和系統(tǒng)支持，由蔡司工程師為您的安裝、預防性維護及保修提供一站式服務。
在您的數據中加入拉曼光譜及成像結果，獲得材料更豐富的表征信息。通過擴展蔡司Sigma 300，使其具備共聚焦拉曼成像功能，您能夠獲得樣品中無二的化學指紋信息，從而指認其成分。
識別分子和晶體結構信息
可進行3D分析，在需要時可關聯SEM圖像、拉曼面掃描成像和EDS數據。
集成RISE讓您體驗由*的SEM和拉曼系統(tǒng)帶來的優(yōu)勢。
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