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PVD物理氣相沉積設備 詳細摘要： PVD物理氣相沉積設備本設備為磁控濺射工藝鍍膜設備，可用于Al、Au、Pt、Cr、Ti、Ni、Cu、NiCr、TiW、W、SiO2、Al2O3、TaN、ITO、...
產品型號： 所在地：成都市 更新時間：2019-07-02 參考價： 面議 在線留言
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成都華聚科技有限公司 |
詳細摘要： PVD物理氣相沉積設備本設備為磁控濺射工藝鍍膜設備，可用于Al、Au、Pt、Cr、Ti、Ni、Cu、NiCr、TiW、W、SiO2、Al2O3、TaN、ITO、...
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