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詳細介紹
PVD物理氣相沉積設備 本設備為磁控濺射工藝鍍膜設備，可用于Al、Au、Pt、Cr、Ti、Ni、Cu、NiCr、TiW、W、SiO2、Al2O3、TaN、ITO、LCO、LiP等各種金屬、非金屬、化合物薄膜材料的制備。通過穩(wěn)定可靠的高精度真空機械手臂，將基片在工藝室和傳輸室間傳輸，實現(xiàn)工藝室不放大氣，連續(xù)生產。配置高性能濺射靶頭，可根據客戶需求定制。
2、技術參數(shù)
| 基片尺寸 | 可選：4"、6"、8"、12" |
| 極限真空度 | 8×10-6Pa（分子泵配置） |
| 前級泵 | 可選：機械泵、干泵 |
| 主泵 | 可選：分子泵、低溫泵 |
| 加熱器 | 600℃，可選配升降及旋轉功能 |
| 工藝氣體 | 配3路MFC充氣，氣體種類可選，更多需求可定制 |
| 水路系統(tǒng) | 采用進口水路檢測傳感器，實現(xiàn)各路水流量及溫度的監(jiān)控 |
| 軟件控制 | 可編輯、儲存多種工藝配方，任意調用，適用于工藝研究 |
| 具備“一鍵啟動式（全自動）生產”功能，適用于小批量生產 | |
| 賬戶分三級權限設置，提高系統(tǒng)安全性及工藝保密性 | |
| 各種安全互鎖設計，防止誤操作 | |
| 其他 | 如有其他特殊需求可定制 |
PVD物理氣相沉積設備
成都華聚科技有限公司位于成都市經濟技術開發(fā)區(qū)（龍泉驛），是一家以自動化設備技術為核心，致力于數(shù)字化智能制造裝備的高科技企業(yè)。
公司與國內外多個研究所、高校和企業(yè)*合作，始終以超前的科技和強大的創(chuàng)新能力，服務于客戶。
公司主營業(yè)務覆蓋：Cluster團簇式半導體工藝設備、PECVD設備、PVD設備、CVD設備、核心部件（機械手、加熱器、Cluster團簇中心傳送平臺）、定制化真空設備、機電一體自動化服務（機電物聯(lián)網服務）等一系列的產品或解決方案。
公司始終以“技術體現(xiàn)我們的智慧，質量體現(xiàn)我們的尊嚴” 作為公司經營理念，同時加強售前售后服務，我們始終以“質量良好、服務優(yōu)先、技術*”作為追求目標。
公司匯聚了眾多相關領域的人才，針對客戶的產品特點提供專業(yè)解決方案，更能以優(yōu)質的標準及非標產品超越客戶的期望，深受廣大客戶的認可和贊譽！
公司現(xiàn)有26人專業(yè)團隊，并另聘請研究員1人，大學材料教授和等離子物理團隊6人，高級工程師2人，涵蓋真空工程、材料科研、等離子物理，器件物理、化管理等方面的各種人才。
Chengdu Huaju Technology was founded in 2016, the registration place is located in Chengdu economic and technological development zone.Our company concentrates on R&D , manufacture of the high-end automatic equipment as well as the vacuum application equipment of the micro-nano materials and devices, and we are the leading company of the field of vacuum. In addition, we cooperate with many scientific research institutes(colleges and universities).
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