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鄭州科佳電爐有限公司

主營產(chǎn)品: 箱式馬弗爐,管式爐,氣氛爐等

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公司信息

聯(lián)人:
范經(jīng)理
址:
高新區(qū)玉蘭街55號
編:
450000
鋪:
http://www.omgrnib.cn/st156132/
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產(chǎn)品展示

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共計 11 條產(chǎn)品信息

產(chǎn)品圖片 產(chǎn)品名稱
KJ-PECVD-1200-50*300-F31200℃PECVD系統(tǒng)
KJ-PECVD-1200-50*300-F31200℃PECVD系統(tǒng)
簡單介紹:產(chǎn)品介紹:PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜
產(chǎn)品型號:KJ-PECVD-1200-50*300-F3   所在地:   更新時間:2023-02-23
參考價:面議 詢價留言
KJ-T1200-JCY卷對卷PECVD設備
KJ-T1200-JCY卷對卷PECVD設備
簡單介紹:產(chǎn)品介紹:卷對卷式PECVD是等離子增強型化學氣相沉積設備(PECVD),并加裝了收放卷裝置
產(chǎn)品型號:KJ-T1200-JCY   所在地:   更新時間:2023-02-23
參考價:面議 詢價留言
KJ-T1200-PEPECVD系統(tǒng)
KJ-T1200-PEPECVD系統(tǒng)
簡單介紹:產(chǎn)品介紹:該產(chǎn)品是由射頻電源、氣體質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、襯底控溫系統(tǒng)、真空系統(tǒng)組成,適用于室溫至1200℃條件下進行SiO2、SiNx薄膜的沉積,同時可實現(xiàn)TEOS源沉積,SiC膜層沉積以及液態(tài)氣態(tài)源沉積其它材料,尤其適合于有機材料上高效保護層膜和特定溫度下無損傷鈍化膜的沉積
產(chǎn)品型號:KJ-T1200-PE   所在地:   更新時間:2023-02-23
參考價:面議 詢價留言
KJ-T1200 PECVD混氣PECVD設備
KJ-T1200 PECVD混氣PECVD設備
簡單介紹:產(chǎn)品描述:KJ-T1200PECVD是一種PECVD(等離子體增強化學氣相沉積)的管式爐系統(tǒng),它由500W射頻電源、帶有200毫米直徑石英管的可拆分管式爐、真空泵和三通道質(zhì)量流量計氣體流動系統(tǒng)組成
產(chǎn)品型號:KJ-T1200 PECVD   所在地:   更新時間:2023-02-23
參考價:面議 詢價留言
KJ-PECVD-D1等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)
KJ-PECVD-D1等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)
簡單介紹:產(chǎn)品介紹:等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)技術是借助于輝光放電(等離子體)使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學反應,從而實現(xiàn)薄膜技術生長的一種系的制備技術
產(chǎn)品型號:KJ-PECVD-D1   所在地:   更新時間:2023-02-23
參考價:面議 詢價留言
KJ-T1200-S60LC-H2石墨烯生長爐PECVD設備
KJ-T1200-S60LC-H2石墨烯生長爐PECVD設備
簡單介紹:產(chǎn)品介紹:KJ-T1200-S60LC-H2石墨烯制備機是由KJ-T1200開啟式滑軌管式爐、真空系統(tǒng)、質(zhì)量流量計氣路系統(tǒng)、等離子電源系統(tǒng)組成
產(chǎn)品型號:KJ-T1200-S60LC-H2   所在地:   更新時間:2023-02-23
參考價:面議 詢價留言
KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S混氣管式PECVD系統(tǒng)
KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S混氣管式PECVD系統(tǒng)
簡單介紹:KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S多路混氣管式PECVD系統(tǒng),由KJ-T1200單溫區(qū)管式爐、真空系統(tǒng)、質(zhì)子流量計、射頻電源系統(tǒng)系統(tǒng)組成
產(chǎn)品型號:KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S   所在地:   更新時間:2022-01-22
參考價:面議 詢價留言
KJ-T1200-S80-DZPECVD-R旋轉(zhuǎn)PECVD系統(tǒng)
KJ-T1200-S80-DZPECVD-R旋轉(zhuǎn)PECVD系統(tǒng)
簡單介紹:產(chǎn)品用途:PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜
產(chǎn)品型號:KJ-T1200-S80-DZPECVD-R   所在地:   更新時間:2022-01-21
參考價:面議 詢價留言
KJ-T1200-S60-6ZH-PE六通道高真空PECVD設備
KJ-T1200-S60-6ZH-PE六通道高真空PECVD設備
簡單介紹:產(chǎn)品介紹:六通道高真空PECVD系統(tǒng)是一款由1200度管式爐,等離子射頻電源,分子泵高真空,六通道氣路等組成的等離子化學氣相沉積系統(tǒng),加熱腔體采用氧化鋁纖維制品,其極低的熱導率和比熱容,保證了爐膛的快速升溫和低蓄熱,特別適合于科研單位的材料工藝研究
產(chǎn)品型號:KJ-T1200-S60-6ZH-PE   所在地:   更新時間:2022-01-21
參考價:面議 詢價留言
KJ-T1200-S6044-LK-Z滑道式PECVD系統(tǒng)
KJ-T1200-S6044-LK-Z滑道式PECVD系統(tǒng)
簡單介紹:產(chǎn)品介紹:滑道式PECVD系統(tǒng)由PT-1200T管式爐加熱系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、質(zhì)量流量計供氣系統(tǒng)、等離子射頻電源系統(tǒng)組成
產(chǎn)品型號:KJ-T1200-S6044-LK-Z   所在地:   更新時間:2022-01-21
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KJ-T1200-S06LC-YR帶預熱系統(tǒng)滑動式PECVD設備
KJ-T1200-S06LC-YR帶預熱系統(tǒng)滑動式PECVD設備
簡單介紹:產(chǎn)品介紹:該設備是一款帶有預熱系統(tǒng)的滑動PECVD系統(tǒng)
產(chǎn)品型號:KJ-T1200-S06LC-YR   所在地:   更新時間:2022-01-21
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