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EDI超純水設(shè)備

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深圳市綠盛凈水設(shè)備有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

一、EDI超純水設(shè)備產(chǎn)品簡(jiǎn)介電去離子（EDI）工藝采用一種離子選擇性膜和離子交換樹(shù)脂夾在直流電壓下兩個(gè)電極之間（陽(yáng)極（+）和陰極（-）），在兩極間的直流電源電場(chǎng)從RO預(yù)處理過(guò)的水中去除離子

詳細(xì)介紹

一、^{_{EDI超純水設(shè)備}}

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

電去離子（EDI）工藝采用一種離子選擇性膜和離子交換樹(shù)脂夾在直流電壓下兩個(gè)電極之間（陽(yáng)極（+）和陰極（-）），在兩極間的直流電源電場(chǎng)從RO預(yù)處理過(guò)的水中去除離子。
離子選擇性膜同離子交換樹(shù)脂有著相同的工作原理和原材料，他們用于將某種特定的離子進(jìn)行分離。陰離子選擇性膜允許陰離子透過(guò)而不能透過(guò)陽(yáng)離子，陽(yáng)離子選擇性膜允許陽(yáng)離子透過(guò)而不能透過(guò)陰離子，這兩種膜不允許水透過(guò)。通過(guò)在一個(gè)層狀、框架式的組件中放置不同的陰離子選擇性膜和陽(yáng)離子選擇性膜，就建立了并列交替的淡水室和濃水室。離子選擇性膜被固定在一個(gè)惰性的聚合體框架上，框架內(nèi)裝填混合樹(shù)脂就形成淡水室，淡水室之間的層就形成了濃水室。
EDI基本重復(fù)單元叫做“膜對(duì)"，見(jiàn)插圖1。模塊的膜對(duì)放置在兩個(gè)電極之間，兩電極提供直流電場(chǎng)給模塊。在提供的直流電場(chǎng)推動(dòng)下，離子通過(guò)膜從淡水室被輸送到濃水室。因此，當(dāng)水通過(guò)淡水室流動(dòng)時(shí)，逐步達(dá)到無(wú)離子狀態(tài)，這股水流就是產(chǎn)品水流。濃水回流回收率可達(dá)到99%。

二、EDI超純水設(shè)備作用及原理

水源的水中含有鈉、鈣、鎂、氯化物、硝酸鹽、碳酸氫鹽、二氧化硅等溶解鹽。這些鹽由帶負(fù)電的離子（anion）和帶正電的離子（cation）組成。98%以上的離子都可以通過(guò)反滲透（RO）處理得以去除。水源還含有有機(jī)物、溶解氣體（如：O2，、CO2）、微量金屬和其它微電離的無(wú)機(jī)化合物，這些雜質(zhì)在工業(yè)應(yīng)用過(guò)程當(dāng)中必須去除（如硼和硅）。RO系統(tǒng)和其預(yù)處理也可以去除許多這些雜質(zhì)。
RO產(chǎn)水（EDI進(jìn)水）的電導(dǎo)率理想范圍一般在4-20μS/cm，而根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域的不同，超純水或去離子水的電阻率一般在2-18.2MΩ.cm之間。EDI工藝從水中去除不想要的離子，依靠在淡水室的樹(shù)脂吸附離子，然后將它們遷移到濃水室中。通常，EDI進(jìn)水離子越少，其產(chǎn)品水質(zhì)量越高。

流入EDI模塊的RO水被分成了三股獨(dú)立的水流：
1. 產(chǎn)水水流（高達(dá)99%的水回收率）
2. 濃水水流（一般為5~10%，可以循環(huán)回流到RO進(jìn)水）
3. 極水水流（0.5~1%，陽(yáng)極+陰極統(tǒng)一排放）
濃水室和產(chǎn)水室（純化）在由變換的陰離子和陽(yáng)離子滲透膜組成的蜂窩式的堆棧中形成單絲屏幕空格。這些形成了兩個(gè)截然不同的、變換的流體腔體。嵌入高聚材料框架的離子選擇性膜和裝滿離子交換樹(shù)脂形成純化室。
第3股水流（極水）持續(xù)不斷地流過(guò)陽(yáng)極和陰極，陽(yáng)極液首先流入陽(yáng)極室，陽(yáng)極室是位于陽(yáng)極和臨近的陰離子選擇性膜之間，在該室PH值下降，產(chǎn)生Cl2和O2。極水流然后流入陰極室，陰極室是位于陰極（-）和一個(gè)臨近的陽(yáng)離子選
擇性膜之間。在陰極室，產(chǎn)生H2（氫氣），因此，極水室排出不想要的氧氣和氫氣。
離子交換反應(yīng)在模塊的淡水室中進(jìn)行，在那里陰離子交換樹(shù)脂釋放出氫氧根離子（OH-）而從溶解鹽（如氯化物、Cl-）中交換陰離子。同樣，陽(yáng)離子交換樹(shù)脂釋放出氫離子（H+）而從溶解鹽中(如鈉、Na+)交換陽(yáng)離子。
從水流中去除離子的吸附步驟，在模塊中的停留是有限的（近似10~15秒）。當(dāng)被吸附時(shí)，離子僅僅被外在的直流電場(chǎng)驅(qū)動(dòng)遷移。
一個(gè)直流（DC）電場(chǎng)通過(guò)放置在組件一端的陽(yáng)極（+）和陰極（-）實(shí)現(xiàn)。電壓驅(qū)動(dòng)這些被吸收的離子沿著樹(shù)脂球的表面移動(dòng)，然后穿過(guò)離子選擇性膜進(jìn)入濃水室。直流電場(chǎng)也裂解水分子形成氫氧根離子和氫離子：
H2O=OH-+H+
這些離子選擇性膜不允許水穿過(guò)，所以他們對(duì)水流來(lái)說(shuō)是個(gè)屏障。帶負(fù)電的陰離子（如OH-、Cl-）被吸引到陽(yáng)極（+）,并且被陰極排斥。這些離子穿過(guò)陰離子選擇性膜，進(jìn)入相鄰的濃水室，而不會(huì)穿過(guò)相鄰的陽(yáng)離子選擇性膜，并滯留在濃水室，并隨濃水流出濃水室。在淡水室中帶正電的陽(yáng)離子（如H+、Na+）被吸引到陰極（-）,并且被陽(yáng)極排斥。這些離子穿過(guò)陽(yáng)離子選擇性膜進(jìn)入臨近的濃水室，他們?cè)谀抢锉慌R近的陰離子選擇性膜阻擋，并隨濃水流出濃水室。
在濃水室中，仍然維持電中性。從兩個(gè)方向輸送過(guò)來(lái)的離子彼此相互中和。從電源流過(guò)來(lái)的電流跟移動(dòng)離子的數(shù)目成比例。水裂解離子（H+和OH-）和現(xiàn)存的離子都被遷移并且被加到所要求的電流之中。當(dāng)水流流過(guò)兩種不同類型的腔體時(shí)，淡水室中的離子就會(huì)*被去除，同時(shí)被收集到鄰近的濃水流之中，這就可以從模塊中帶走被去除了的離子。
在淡水室中還會(huì)發(fā)生一個(gè)重要現(xiàn)象，在電勢(shì)梯度高的特定區(qū)域，電化學(xué)“分解"能夠使水產(chǎn)生大量的H+和OH-離子。這些區(qū)域中產(chǎn)生的H+和OH-離子在混合的離子交換樹(shù)脂中可以使樹(shù)脂和膜不斷再生，并且不需要外加化學(xué)試劑。

三、運(yùn)行進(jìn)水特性：

以下是所能夠感保證的***低運(yùn)行要求**值更多地接近設(shè)計(jì)目標(biāo)，就能得到更理想的EDI模塊性能。
v 水源：反滲透RO產(chǎn)水，電導(dǎo)率1-20 μS/cm。***佳電導(dǎo)率在2-10 μS/cm。
v PH值： 5.0 to 9.5 (pH 7.0 至 8.0之間EDI有***佳電阻率性能，但硬度要低于常規(guī)值)，注意到典型的低PH值進(jìn)水時(shí)由于CO2的存在而導(dǎo)致產(chǎn)水質(zhì)量下降。
v 溫度： 5°C to 35°C. ***佳質(zhì)量在25°C。
v 進(jìn)水壓力： 0.15~0.5MPa (1.5~5 bar)，模塊壓力降取決于流量和溫度。
v 出水壓力：濃水和極水出水壓力要比產(chǎn)水出水壓力低。
v 硬度(以CaCO3計(jì))： ***大1.0 ppm在90%回收率時(shí)。
v 有機(jī)物： TOC ***大0.5 ppm，建議檢測(cè)不出。
v 氧化劑：活性氯(Cl2)***大 0.05 ppm，建議檢測(cè)不出；臭氧(O3)***大0.02 ppm，建議檢測(cè)不出。
v 金屬： ***大0.01 ppm Fe、Mn、變價(jià)性金屬離子
v 硅： ***大0.5 ppm. 反滲透RO產(chǎn)水典型范圍是50-150 ppb
v 總CO2：建議小于5 ppm. 高于10 ppm時(shí)，產(chǎn)水品質(zhì)很大程度上依賴于CO2水平和PH值
v 顆粒：建議用無(wú)顆粒的反滲透RO產(chǎn)水（直接進(jìn)入）或者將中間水箱的水采用1μm預(yù)先過(guò)濾。
EDI技術(shù)與混合離子交換技術(shù)相比有如下優(yōu)點(diǎn)：
①水質(zhì)穩(wěn)定
②容易實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制
③不會(huì)因再生而停機(jī)
④不需化學(xué)再生
⑤運(yùn)行費(fèi)用低
⑥廠房面積小
⑦無(wú)污水排放

四、EDI超純水設(shè)備規(guī)格選型

型號(hào)	設(shè)計(jì)出水量（T/h）	額定功率（kW）	出水水質(zhì)（電阻率MΩ·cm）	額定電壓（V）	備注
YR-EDI-0.5T	0.5	2.0	15-18.2	380	YR：譽(yù)潤(rùn) EDI：電去離子技術(shù) 1T：每小時(shí)的出水量
YR-EDI-1T	1	3.0	15-18.2	380
YR-EDI-2T	2	4.0	15-18.2	380
YR-EDI-3T	3	5.5	15-18.2	380
YR-EDI-4T	4	7.0	15-18.2	380
YR-EDI-5T	5	9.0	15-18.2	380
YR-EDI-8T	8	15.0	15-18.2	380
YR-EDI-10T	10	18.0	15-18.2	380
YR-EDI-15T	15	28.0	15-18.2	380

五、EDI超純水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域

EDI超純水設(shè)備用于微電子和半導(dǎo)體生產(chǎn)，也用于生物醫(yī)學(xué)和實(shí)驗(yàn)室研究，還用于藥品制造業(yè)，作為蒸餾的處理，發(fā)電過(guò)程當(dāng)中的鍋爐水，食品和飲料業(yè)以及需要用到去離子水的各種工業(yè)領(lǐng)域。
1、取電子工業(yè)生產(chǎn)如單晶硅半導(dǎo)體集成電路塊、顯象管、玻殼、液晶顯示器等。

2、醫(yī)藥行業(yè)用水：制藥、制劑工藝用水，醫(yī)療血液透析、生化分析、輸液等。

3、制取熱力、火力發(fā)電鍋爐，廠礦企業(yè)中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水。
4、制取電鍍工藝用去離子水、電池（蓄電池）生產(chǎn)工藝的純水，汽車、家用電器、建材產(chǎn)品表面涂裝、清洗用純水。
5、鍍膜玻璃用純水，紡織印染工藝所需的除鹽水。
6、石油化工如化工反應(yīng)冷卻、化學(xué)藥劑、化肥及精細(xì)化工、化妝品制造過(guò)程用工藝純水。
7、用于防靜電行業(yè)的超純水制備。
8、無(wú)塵布用超純水