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高純電子化學(xué)品用5t/h高純水設(shè)備

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更新時(shí)間：2025-03-01 16:18:49瀏覽次數(shù)：45次

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蘇州市創(chuàng)聯(lián)凈化設(shè)備有限公司

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應(yīng)用領(lǐng)域和指標(biāo)要求參考用途用水指標(biāo)參考標(biāo)準(zhǔn)超純材料和超純化學(xué)試劑石英、硅材料生產(chǎn)、加工、提純電子半導(dǎo)體、集成電路板上用到的化工材料電阻率15~18

詳細(xì)介紹

應(yīng)用領(lǐng)域和指標(biāo)要求參考

用途

用水指標(biāo)

參考標(biāo)準(zhǔn)

超純材料和超純化學(xué)試劑

石英、硅材料生產(chǎn)、加工、提純

電子半導(dǎo)體、集成電路板上用到的化工材料

電阻率15 ~18.25 MΩ.CM

我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)

美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)

普通化工材料的生產(chǎn)和加工過程所用的溶劑及清洗過程

電導(dǎo)率≤10μs/CM

飲用純凈水標(biāo)準(zhǔn)（GB17324-98）

主要工藝流程和出水指標(biāo)：

※ 預(yù)處理+1級(jí)反滲透（電導(dǎo)率≤10μs/CM）

※ 預(yù)處理+二級(jí)反滲透（電導(dǎo)率≤2μs/CM）

※ 預(yù)處理+反滲透+離子交換器（電阻率≥15MΩ.CM）

※ 預(yù)處理+1級(jí)反滲透+EDI（電阻率≥15MΩ.CM）

預(yù)處理+二級(jí)反滲透+EDI +拋光混床（電阻率≥18.25MΩ.CM）

詳細(xì)工藝需根據(jù)原水設(shè)計(jì)情況進(jìn)行設(shè)計(jì)

純水設(shè)備的主要特點(diǎn)

   ▼采用進(jìn)口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長(zhǎng)，運(yùn)行成本低廉，產(chǎn)水水質(zhì)高而穩(wěn)定；
   ▼在線水質(zhì)監(jiān)測(cè)控制，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)水質(zhì)變化，保障水質(zhì)；
   ▼全自動(dòng)電控程序，還可選配觸摸屏操作，使用方便，操作簡(jiǎn)單、方便；
   ▼切合當(dāng)?shù)厮|(zhì)的個(gè)性化設(shè)計(jì)，設(shè)想周到的堆疊式設(shè)計(jì)，占地面積小，滿足需求。