電子行業(yè)高純水設(shè)備
集成電路芯片、單晶硅、顯像管、LCD液晶顯示器、計(jì)算機(jī)硬盤、線路板等電子工藝所需的純水和超純水制備。
電子行業(yè)高純水設(shè)備適用于集成電路芯片、單晶硅、顯像管、液晶顯示器、計(jì)算機(jī)硬盤、線路板等工藝所需的純水和超純水制備。在嚴(yán)格執(zhí)行ISO-9001質(zhì)量體系標(biāo)準(zhǔn)的前提下，采用世界上的反滲透膜元件。壓力容器和高壓泵、配以合理而又高效的前處理設(shè)備及后處理設(shè)備，使產(chǎn)品出水符合各類電子行業(yè)生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)的超純水?？刂葡到y(tǒng)選用PLC程序控制，可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)起停、加藥及沖洗，自動(dòng)監(jiān)測各種運(yùn)行參數(shù)，并可實(shí)現(xiàn)運(yùn)行參數(shù)的儲(chǔ)存及打印廣泛適用于： 半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路 LCD、EL、PDP、TFT、玻殼、顯像管 超純材料和超純化學(xué)試劑光導(dǎo)纖維、光盤等。
典型工藝流程：
1.預(yù)處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－粗混合床－精混合床－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－精密過濾器－用水對象 （≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
2.預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥18MΩ.CM）(工藝)
3.預(yù)處理－一級反滲透－加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）－中間水箱－第二級反滲透（正電荷反滲膜）－純水箱－純水泵－EDI裝置－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥17MΩ.CM） (工藝)
4.預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）(工藝) 處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－純水泵－粗混合床－精混合床－紫外線殺菌器－精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
高純水設(shè)備的應(yīng)用：
●電子工業(yè)生產(chǎn)用水，如單晶硅超純水設(shè)備、半導(dǎo)體純水處理設(shè)備、集成電路塊用水設(shè)備、IC芯片封裝用水設(shè)備、顯象管用水設(shè)備、玻殼超純水處理
●LCD液晶清洗用水設(shè)備、光學(xué)水處理，光學(xué)玻璃清洗用水設(shè)備、光電超純水設(shè)備
●熱電廠用水、冶金工業(yè)用水、化工純水設(shè)備、輕工工程用水、汽車制造清洗用水
●制藥純化水、醫(yī)療衛(wèi)生等制造工業(yè)用純水。
全利環(huán)保公司制造的：
1、采用進(jìn)口逆滲透膜（RO膜），運(yùn)用目前上zui為*的逆滲透水處理技術(shù)制備純水，可清除原水中的細(xì)微雜質(zhì)、膠體、有機(jī)物、重金屬、可溶性固體、細(xì)菌、病毒、熱原和其它有害雜質(zhì)，僅保留水分子和溶解氧，有效去除率大于等于96%。
2、采用進(jìn)口高壓*泵、噪聲低、振動(dòng)小、使用壽命長、運(yùn)行質(zhì)量可靠。
3、預(yù)處理耗材采用可更換方式，可有效保證預(yù)處理效果，且更換方便，換耗材價(jià)格經(jīng)濟(jì)，產(chǎn)水運(yùn)行成本低。
4、具有高壓沖洗逆滲透膜的功能，可有效延長RO膜壽命。
5、制水過程自動(dòng)控制（原水缺水停機(jī)，水滿停機(jī)）。
6、長壽命：采用食品級硬質(zhì)塑料，無腐蝕、經(jīng)久耐用。
7、易維護(hù)：采用通用標(biāo)準(zhǔn)器材耗材、安裝清洗方便。
 
*--用全利--全利水科技