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日本AMAYA天谷制作所 6英寸小直徑晶圓 半導(dǎo)體A6300S

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更新時(shí)間:2025-03-12 07:50:57瀏覽次數(shù):41

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大型常壓CVD系統(tǒng),適用于6英寸以下的小直徑晶圓空客A6300S6 英寸吞吐量,每小時(shí) 120 張使用SiC托盤(pán)防止重金屬污染的對(duì)策日本AMAYA天谷制作所 6英寸小直徑晶圓 半導(dǎo)體A6300S特征針對(duì)小直徑晶圓量產(chǎn)設(shè)備的需求,該連續(xù)常壓CVD系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了每小時(shí)120片晶圓的吞吐量。該裝置既能實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn),又能降低成本,同時(shí)還使用了為實(shí)現(xiàn)大范圍的薄膜沉積區(qū)域而開(kāi)發(fā)的分散頭和限制托盤(pán)數(shù)量的運(yùn)輸系

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品信息

大型常壓CVD系統(tǒng),適用于6英寸以下的小直徑晶圓

空客A6300S

  • 6 英寸吞吐量,每小時(shí) 120 張

  • 使用SiC托盤(pán)防止重金屬污染的對(duì)策

圖片關(guān)鍵詞

日本AMAYA天谷制作所 6英寸小直徑晶圓 半導(dǎo)體A6300S

特征

  • 針對(duì)小直徑晶圓量產(chǎn)設(shè)備的需求,該連續(xù)常壓CVD系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了每小時(shí)120片晶圓的吞吐量。

  • 該裝置既能實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn),又能降低成本,同時(shí)還使用了為實(shí)現(xiàn)大范圍的薄膜沉積區(qū)域而開(kāi)發(fā)的分散頭和限制托盤(pán)數(shù)量的運(yùn)輸系統(tǒng)。

  • 碳化硅托盤(pán)的使用使重金屬污染難以發(fā)生。 此外,由于受熱引起的老化很少,可以獲得穩(wěn)定的工藝性能。

  • 標(biāo)配自動(dòng)托盤(pán)更換功能,確保工人**,減少維護(hù)時(shí)間。 此外,自動(dòng)升高頭底座的機(jī)制使其易于清潔。

性能

涂層厚度均勻性≦±4.0%
支持的晶圓尺寸≦6寸
氣體種類(lèi)SiH4, O 2, PH3, B 2 H6, N 2
沉積溫度350°C~450°C
生產(chǎn)力120 ppm。

主要技術(shù)指標(biāo)

設(shè)備尺寸1500mm(寬) x 2850mm(深) x 2000mm(高)
加熱機(jī)制電阻加熱
裝卸機(jī)器人 CtoC 傳輸
分散頭(氣體噴嘴)A63 頭(標(biāo)配 2 頭)


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