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改性高分子納米材料高剪切研磨分散機勻漿機

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參考價 165000
訂貨量 1
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號 CM2000
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質 生產商
  • 所在地 上海市

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更新時間:2025-03-31 09:11:37瀏覽次數:599

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產品簡介

改性高分子納米材料高速剪切研磨分散機,合成高分子材料高速分散機,纖維改性高分子粉體材料濕法粉碎機,高分子管線式乳化機,高分子材料研磨分散設備,高分子材料研磨分散機

詳細介紹

  改性高分子納米材料高速剪切研磨分散機,合成高分子材料高速分散機,纖維改性高分子粉體材料濕法粉碎機,高分子管線式乳化機,高分子材料研磨分散設備,高分子材料研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。


高分子材料按來源分為天然高分子材料和合成高分子材料。

天然高分子是存在于動物、植物及生物體內的高分子物質,可分為天然纖維、天然樹脂、天然橡膠、動物膠等。合成高分子材料主要是指塑料、合成橡膠和合成纖維三大合成材料,此外還包括膠黏劑、涂料以及各種功能性高分子材料。合成高分子材料具有天然高分子材料所沒有的或較為*的性能——較小的密度、較高的力學、耐磨性、耐腐蝕性、電絕緣性等

高分子材料研磨分散設備  

高分子材料在加工之前,要*行合成,把單體合成為聚合物進行造粒,然后才進行熔融加工。高分子材料的合成方法有本體聚合、懸浮聚合、乳液聚合、溶液聚合和氣相聚合等。這其中引發(fā)劑起了很重要的作用,偶氮引發(fā)劑和過氧類引發(fā)劑都是常用的引發(fā)劑,高分子材料助劑往往對高分子材料性能的改進和成本的降低也有很明顯的作用。

  改性高分子納米材料高速剪切研磨分散機,合成高分子材料高速分散機,纖維改性高分子粉體材料濕法粉碎機,高分子管線式乳化機,高分子材料研磨分散設備,高分子材料研磨分散機

  加工工藝高分子材料的加工成型不是單純的物理過程,而是決定高分子材料***終結構和性能的重要環(huán)節(jié)。除膠粘劑、涂料一般無需加工成形而可直接使用外、橡膠、纖維、塑料等通常須用相應的成形方法加工成制品。一般塑料制品常用的成形方法有擠出、注射、壓延、吹塑、模壓或傳遞模塑等。橡膠制品有塑煉、混煉、壓延或擠出等成形工序。纖維有紡絲溶體制備、纖維成形和卷繞、后處理、初生纖維的拉伸和熱定型等。


研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。

  第1級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

  第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出***終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯結形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器


研磨分散機

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW


CMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

3000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

8000

4,200

23

22

DN80/DN65

CMD 2000/20

20000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

40000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

120000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節(jié)到***大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質為“水"的測定數據。

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和***終產品的要求。

3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數,以便選型和定制。

 改性高分子納米材料高速剪切研磨分散機,合成高分子材料高速分散機,纖維改性高分子粉體材料濕法粉碎機,高分子管線式乳化機,高分子材料研磨分散設備,高分子材料研磨分散機


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