| 切可機(jī)械設(shè)備有限公司（上海）
主營產(chǎn)品： 膠體磨??乳化機(jī)?均質(zhì)機(jī)?分散機(jī)?混合機(jī)?真空乳化機(jī)?研磨分散機(jī)?研磨均質(zhì)機(jī)?實(shí)驗(yàn)室均質(zhì)乳化設(shè)備 |
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主營產(chǎn)品： 膠體磨??乳化機(jī)?均質(zhì)機(jī)?分散機(jī)?混合機(jī)?真空乳化機(jī)?研磨分散機(jī)?研磨均質(zhì)機(jī)?實(shí)驗(yàn)室均質(zhì)乳化設(shè)備 |
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更新時間：2018-05-15 14:20:36瀏覽次數(shù)：518
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納米研磨分散機(jī)，納米研磨分散設(shè)備，納米高剪切分散機(jī)，納米管線式分散機(jī)，管線式研磨分散機(jī)，CIK研磨分散機(jī)
【納米研磨分散機(jī)簡介】
對于納米的物料分散一直是人們關(guān)注的熱點(diǎn)，納米分散存在著難以解決的問題，納米物料分散到流體物質(zhì)當(dāng)中容易形成二級團(tuán)聚體，導(dǎo)致物料粒徑變大，難以分散。面對這種情況，CIK研發(fā)出新型設(shè)備-研磨分散機(jī)，應(yīng)對納米物質(zhì)的分散問題。并有著廣泛的實(shí)例，如納米級白炭黑的分散，納米級石墨烯的分散，都在使用CIK研磨分散機(jī)進(jìn)行分散處理，*。
NKD2000系列研磨分散設(shè)備是CIK（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
【的特點(diǎn)】
1 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。
2 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
5 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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信息來源于www.ciksh。。ｃｏｍ
