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行業(yè)產(chǎn)品

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北京慧龍環(huán)科環(huán)境儀器有限公司


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五靶頭等離子射頻磁控濺射儀

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參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號VTC-5RF

品       牌

廠商性質(zhì)代理商

所  在  地北京市

聯(lián)系方式：雷克東查看聯(lián)系方式

更新時間：2024-10-24 09:30:44瀏覽次數(shù)：154次

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產(chǎn)品簡介

五靶頭等離子射頻磁控濺射儀更新時間：2020-01-08產(chǎn)品型號：VTC-5RF廠商性質(zhì)：代理商產(chǎn)品品牌：合肥科晶產(chǎn)品廠地：國外訪問次數(shù)：210VTC-5RF五靶頭等離子射頻磁控濺射儀是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀，針對于高通量MGI（材料基因組計劃）薄膜的研究

詳細(xì)介紹

五靶頭等離子射頻磁控濺射儀

  • 更新時間：2020-01-08
  • 產(chǎn)品型號：VTC-5RF
  • 廠商性質(zhì)：代理商
  • 產(chǎn)品品牌：合肥科晶
  • 產(chǎn)品廠地：國外
  • 訪問次數(shù)：210

VTC-5RF五靶頭等離子射頻磁控濺射儀是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀，針對于高通量MGI（材料基因組計劃）薄膜的研究。特別適合用于探索固態(tài)電解質(zhì)材料，通過5種元素，按16種不同配比組合。

VTC-5RF五靶頭等離子射頻磁控濺射儀

產(chǎn)品概述：

VTC-5RF五靶頭等離子射頻磁控濺射儀是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀，針對于高通量MGI（材料基因組計劃）薄膜的研究。特別適合用于探索固態(tài)電解質(zhì)材料，通過5種元素，按16種不同配比組合。

主要特點(diǎn)：

  • 多種濺射靶頭及電源可選，自由組合，具體請致電我公司銷售部。 
  • 根據(jù)所使用的電源（DC或RF），可以沉積金屬或非金屬材料。 
  • 一個旋轉(zhuǎn)開關(guān)可以依次激活濺射頭，可在真空或等離子體環(huán)境中自動切換，不影響真空度。 
  • 可以安裝五種不同材料的靶材，每個靶頭可單獨(dú)設(shè)置濺射時間功率等參數(shù)，用于生長不同成分的薄膜。 
  • 可選購多個射頻電源，同一時間濺射多個靶材。 
  • 可選配設(shè)備控制軟件，用電腦控制濺射的所有參數(shù)。

濺射腔體：

  • 真空腔體采用304不銹鋼制作 
  • 腔體內(nèi)部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H  (105 L) 
  • 鉸鏈?zhǔn)角婚T，直徑為Φ380mm,上面安裝有Φ150mm的玻璃窗口

濺射頭&樣品臺：

  • 5個1英寸的磁控濺射頭，帶有水冷夾層
  • 濺射腔體內(nèi)安裝有電動擋板 
  • 濺射距離:濺射距離可調(diào)
  • 濺射角度:濺射角度可調(diào) 
  • 實(shí)驗(yàn)時，需要將靶材和靶材的銅墊片用導(dǎo)電銀漿粘合粘合，（可在本公司購買導(dǎo)電銀漿） 
  • 可以單獨(dú)訂購RF連接線作為備用
  • 設(shè)備需要一臺水冷機(jī)，用于靶頭冷卻

樣品臺：

  • 直徑為150mm的樣品臺，上面覆蓋一旋轉(zhuǎn)臺，帶有10mm的孔洞，每次露出一個樣品接收濺射成膜。 
  • 樣品臺尺寸：Φ150mm,可通過程序控制來旋轉(zhuǎn)，可制作16種不同組分的薄膜 
  • 樣品臺可以加熱，高溫度可達(dá)600℃（根據(jù)配置不同可能會有變動，具體請咨詢銷售部）

真空系統(tǒng)：

  • 安裝有KF40真空接口 
  • 真空度：4.0e-5Torr(分子泵）（參考值，具體請點(diǎn)擊） 
  • 可在本公司選購各種真空泵

進(jìn)氣：

  • 設(shè)備上配1/4英寸進(jìn)氣口方便連接氣瓶 
  • 設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕，方便調(diào)節(jié)氣流

靶材：

  • 所要求靶材尺寸：直徑為25mm,大厚度3mm 
  • 可在本公司選購各種靶材

薄膜測厚儀（可選）：可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上

凈重：60Kg（不包括泵)

質(zhì)量認(rèn)證：CE認(rèn)證

使用提示：

  • 此設(shè)備為DIY設(shè)備，參數(shù)變化較大購買前請務(wù)必電話仔細(xì)溝通
  • 為了得到較好的薄膜質(zhì)量，必須通入高純氣體（建議> 5N） 
  • 在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈 
  • 要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合，請在濺射前清潔基材表面 
  • 超聲波清洗（詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片）：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮?dú)飧稍铮?）真空烘箱除去水分。 
  • 等離子清洗（詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片）：可表面粗糙化，可激活表面化學(xué)鍵，可祛除額外的污染物。 
  • 制造一個薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。

警告：

  • 注意：產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動機(jī)體。 
  • 氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥（設(shè)備標(biāo)配不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。
  • 濺射頭連接到高電壓。為了安全，操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶

 

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關(guān)鍵詞：真空泵 測厚儀 減壓閥

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