設(shè)備簡(jiǎn)介：
該設(shè)備主要用于礦物石墨的膨化。
設(shè)備特點(diǎn)：
1、快速膨化，石墨在幾秒鐘之內(nèi)完成膨化過(guò)程；
2、低溫膨化，膨化溫度僅需300~500℃；
3、特殊布料設(shè)計(jì)，讓膨化率更高；
4、內(nèi)壁鐵氟龍噴涂設(shè)計(jì)防止金屬污染；
5、高能保溫設(shè)計(jì)，保護(hù)磁控管延長(zhǎng)設(shè)備壽命。
設(shè)備參數(shù):
1. 電源輸入： 三相380V±10%，50Hz
2. 總輸入視在功率： ≤120kVA
3. 微波輸出功率： ≤80kW功率可調(diào)（隧道式）
4. 微波頻率： 2450MHz±50MHz
5. 外型尺寸： （約）14000mm*1200mm*1800㎜（長(zhǎng)*寬*高）
6. 微波作用區(qū)域： 9500mm*1010mm*665㎜
7. 進(jìn)出料口： 50mm/150mm
8. 傳動(dòng)速度： 變頻調(diào)速 0-10m/min
9. 傳送帶距地面高度： 800mm（±15㎜）
10. 工作溫度： -5～35℃
11.工作環(huán)境： 相對(duì)濕度≤80%
12. 周?chē)h(huán)境： 周?chē)鸁o(wú)腐蝕性氣體、導(dǎo)電粉塵及爆炸氣體
13. 微波漏能： 符合國(guó)家GB10436-89 微波輻射安全標(biāo)準(zhǔn)
14. 設(shè)備安全： 符合GB5226電器安全標(biāo)準(zhǔn)
設(shè)備采用整體保溫措施，連續(xù)進(jìn)出料，采用耐溫超500度輸送帶，波導(dǎo)口云母片密封，觀察們均采用石英玻璃覆蓋，采用振動(dòng)導(dǎo)槽分列布料，膨化效果好，體積瞬間膨大500倍，是制備石墨烯的良好材料。設(shè)備電氣*密封，散熱氣流室外循環(huán)，有效防止電氣粉塵損害。
延伸閱讀：石墨烯的四種制備方法
原文鏈接：https://wenku..com/view/fa3efb88c8d376eeaeaa3185.html 石墨烯制備技術(shù)發(fā)展迅速。石墨烯優(yōu)良的性能和廣泛的應(yīng)用前景，極大的促進(jìn)了石墨烯制備技術(shù)的快速發(fā)展。自2004年Geim等用微機(jī)械剝離法制備出石墨烯以來(lái)，科研人員又開(kāi)發(fā)出眾多制備石墨烯的方法。其中比較主流的方法有外延生長(zhǎng)法、化學(xué)氣相沉淀CVD法和氧化石墨還原法等。 現(xiàn)有制法還不能滿(mǎn)足石墨烯產(chǎn)業(yè)化的要求。包括微機(jī)械剝離法、外延生長(zhǎng)法、化學(xué)氣相沉淀CVD法和氧化石墨還原法在內(nèi)的眾多制備方法目前仍不能滿(mǎn)足產(chǎn)業(yè)化的要求。特別是產(chǎn)業(yè)化要求石墨烯制備技術(shù)能穩(wěn)定、低成本地生產(chǎn)大面積、純度高的石墨烯，這一制備技術(shù)上的問(wèn)題至今尚未解決。 微機(jī)械剝離法 石墨烯首先由微機(jī)械剝離法制得。微機(jī)械剝離法即是用透明膠帶將高定向熱解石墨片按壓到其他表面上進(jìn)行多次剝離，最終得到單層或數(shù)層的石墨烯。2004年，Geim，Novoselov等就是通過(guò)此方法在世界上得到了單層石墨烯，證明了二維晶體結(jié)構(gòu)在常溫下是可以存在的。 微機(jī)械剝離方法操作簡(jiǎn)單、制作樣本質(zhì)量高，是當(dāng)前制取單層高品質(zhì)石墨烯的主要方法。但其可控性較差，制得的石墨烯尺寸較小且存在很大的不確定性，同時(shí)效率低，成本高，不適合大規(guī)模生產(chǎn)。 外延生長(zhǎng)法 外延生長(zhǎng)方法包括碳化硅外延生長(zhǎng)法和金屬催化外延生長(zhǎng)法。碳化硅外延生長(zhǎng)法是指在高溫下加熱SiC單晶體，使得SiC表面的Si原子被蒸發(fā)而脫離表面，剩下的C原子通過(guò)自組形式重構(gòu)，從而得到基于SiC襯底的石墨烯。 金屬催化外延生長(zhǎng)法是在超高真空條件下將碳?xì)浠衔锿ㄈ氲骄哂写呋钚缘倪^(guò)渡金屬基底如Pt、Ir、Ru、Cu等表面，通過(guò)加熱使吸附氣體催化脫氫從而制得石墨烯。氣體在吸附過(guò)程中可以長(zhǎng)滿(mǎn)整個(gè)金屬基底，并且其生長(zhǎng)過(guò)程為一個(gè)自限過(guò)程，即基底吸附氣體后不會(huì)重復(fù)吸收，因此，所制備出的石墨烯多為單層，且可以大面積地制備出均勻的石墨烯。 化學(xué)氣相沉淀CVD法 潛力的大規(guī)模生產(chǎn)方法 CVD法被認(rèn)為希望制備出高質(zhì)量、大面積的石墨烯，是產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)石墨烯薄膜潛力的方法?；瘜W(xué)氣相沉淀CVD法具體過(guò)程是：將碳?xì)浠衔锛淄?、乙醇等通入到高溫加熱的金屬基底Cu、Ni表面，反應(yīng)持續(xù)一定時(shí)間后進(jìn)行冷卻，冷卻過(guò)程中在基底表面便會(huì)形成數(shù)層或單層石墨烯，此過(guò)程中包含碳原子在基底上溶解及擴(kuò)散生長(zhǎng)兩部分。該方法與金屬催化外延生長(zhǎng)法類(lèi)似，其優(yōu)點(diǎn)是可以在更低的溫度下進(jìn)行，從而可以降低制備過(guò)程中能量的消耗量，并續(xù)對(duì)石墨烯進(jìn)行加工處理。 三星用這種方法獲得了對(duì)角長(zhǎng)度為30英寸的單層石墨烯，顯示出這種方法作為產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)方法的巨大潛力。但該過(guò)程所制備出的石墨烯的厚度難以控制，在沉淀過(guò)程中只有小部分可用的碳轉(zhuǎn)變成石墨烯，且石墨烯的轉(zhuǎn)移過(guò)程復(fù)雜。 氧化石墨還原法 氧化石墨還原法也被認(rèn)為是目前制備石墨烯的方法之一。該方法操作簡(jiǎn)單、制備成本低，可以大規(guī)模地制備出石墨烯，已成為石墨烯制備的有效途徑。另外該方法還有一個(gè)優(yōu)點(diǎn)，就是可以先生產(chǎn)出同樣具有廣泛應(yīng)用前景的功能化石墨烯--氧化石墨烯。 其具體操作過(guò)程是先用強(qiáng)氧化劑濃硫酸、濃硝酸、等將石墨氧化成氧化石墨，氧化過(guò)程即在石墨層間穿插一些含氧官能團(tuán)，從而加大了石墨層間距，然后經(jīng)超聲處理一段時(shí)間之后，就可形成單層或數(shù)層氧化石墨烯，再用強(qiáng)還原劑水合肼、等將氧化石墨烯還原成石墨烯。 其他制備石墨烯的方法還有碳納米管切割法、石墨插層法、離子注入法、高溫高壓HPHT生長(zhǎng)法、爆炸法以及有機(jī)合成法等。 制備大面積、高質(zhì)量的石墨烯仍然是一個(gè)較大的挑戰(zhàn)。雖然化學(xué)氣相沉淀法和氧化還原法可以大量的制備出石墨烯，但是化學(xué)氣相沉淀法在制備后期，對(duì)于石墨烯的轉(zhuǎn)移過(guò)程比較復(fù)雜，而且制備成本較高，另外基底內(nèi)部C生長(zhǎng)與連接往往存在缺陷。利用氧化還原法在制備時(shí)，由于單層石墨烯非常薄，容易團(tuán)聚，導(dǎo)致降低石墨烯的導(dǎo)電性能及比表面積，進(jìn)一步影響其在光電設(shè)備中的應(yīng)用，另外，氧化還原過(guò)程中容易引起石墨烯的晶體結(jié)構(gòu)缺陷，如碳環(huán)上碳原子的丟失等。 制法制約石墨烯產(chǎn)業(yè)化。石墨烯的各種性能只有在石墨烯質(zhì)量很高時(shí)才能體現(xiàn)，隨著層數(shù)的增加和內(nèi)部缺陷的累積，石墨烯諸多*性能都將降低。要真正的實(shí)現(xiàn)石墨烯應(yīng)用的產(chǎn)業(yè)化，體現(xiàn)出石墨烯替代其他材料的*品質(zhì)，必須在制備方法上尋求突破。只有適合工業(yè)化的石墨烯制法出現(xiàn)了，石墨烯產(chǎn)業(yè)化才能真正到來(lái)。 |
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