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行業(yè)產(chǎn)品

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碳納米管研磨分散機

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參   考   價: 128000

訂  貨  量: ≥1  套

具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號KZSD2000

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地蘇州市

聯(lián)系方式:葛經(jīng)理查看聯(lián)系方式

更新時間:2021-04-25 10:09:24瀏覽次數(shù):383次

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產(chǎn)品簡介

碳納米管研磨分散機,高剪切研磨分散機,碳納米管分散機,研磨分散機,
碳納米管應(yīng)用于導電涂料、導電膠、鋰離子電池電極材料及其它復合物中,開發(fā)了高碳納米管含量、高流動性的碳納米管漿料,是經(jīng)濟型的分散產(chǎn)品
碳納米管漿料由多壁碳納米管、碳納米管分散劑、液體介質(zhì)等三種成分組成,經(jīng)過特定的機械研磨設(shè)備和分散工藝,規(guī)模化地生產(chǎn)。

詳細介紹

碳納米管研磨分散機,高剪切研磨分散機,碳納米管分散機,研磨分散機,

碳納米管應(yīng)用于導電涂料、導電膠、鋰離子電池電極材料及其它復合物中,開發(fā)了高碳納米管含量、高流動性的碳納米管漿料,是經(jīng)濟型的分散產(chǎn)品
碳納米管漿料由多壁碳納米管、碳納米管分散劑、液體介質(zhì)等三種成分組成,經(jīng)過特定的機械研磨設(shè)備和分散工藝,規(guī)?;厣a(chǎn)。
我們供貨的漿料,是以工業(yè)級多壁碳納米管TNIM8為原料,液體介質(zhì)包括:水、N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、異丙醇(IPA)、乙酸丁酯.

一、碳納米管分散技術(shù)三要素
二、分散劑用量*
三、碳納米管水分散劑(TNWDIS)概述
四、超聲波分散設(shè)備使用建議及分散實例
五、研磨分散設(shè)備使用建議
碳納米管分散技術(shù)三要素:分散介質(zhì)、分散劑和分散設(shè)備
1、分散介質(zhì)
1)根據(jù)粘度不同,分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中,如水和有機溶劑,碳納米管易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等,高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料
2)本PPT文件介紹的碳納米管分散技術(shù),針對中、低粘度分散介質(zhì)
2、分散劑
1)分散劑的選擇,與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)
2)分散劑的用量,與碳納米管比表面積和共價鍵修飾的功能基團有關(guān)
3)水性介質(zhì)中,*使用TNWDIS。強極性有機溶劑中,如醇、DMF、NMP *使用TNADIS。中等極性有機溶劑如酯類、液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠,*使用TNEDIS 
3、分散設(shè)備
1)超聲波分散設(shè)備:非常適合實驗室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散碳納米管,用于中、高粘度介質(zhì)時會受到限制
2)研磨分散設(shè)備:適合大規(guī)模地分散碳納米管、中粘度介質(zhì)分散碳納米管
3)采用先研磨分散、后超聲波分散組合方法,可以高效、穩(wěn)定地分散碳納米管
分散劑用量*
1、碳納米管比表面積與分散劑用量
我們試劑級碳納米管分為單壁管(外徑<2nm)和多壁管。多壁管根據(jù)外徑不同,分為TNM1(外徑<8nm)、 TNM2 (外徑8-15nm)、 TNM3 (外徑10-20nm)、 TNM5 (外徑20-30nm)、 TNM7 (外徑30-50nm)、 TNM8 (外徑>50nm)。隨著外徑的增加,碳納米管的比表面積減小

碳納米管作為一維納米材料,重量輕,六邊形結(jié)構(gòu)連接***,具有許多異常的力學、電學和化學性能。近些年隨著碳納米管及納米材料研究的深入其廣闊的應(yīng)用前景也不斷地展現(xiàn)出來。

碳納米管極輕,以分散在聚氨酯中為例,不易分散均勻,且在研磨的過程中對溫度的要求*,常溫下為固體,需預熱。但是如果研磨分散的過程中,升溫太快,研磨的碳納米管、聚氨酯成品就是廢料,所以怎么既能讓這種特殊的物料研磨到需要的細度,又可以控制好溫度。

ZKE工程師*使用KZSD2000系列研磨分散機。*的設(shè)計使物料被充分分散均勻,在設(shè)備運轉(zhuǎn)的過程通過加冷卻水對設(shè)備進行冷卻,由于是設(shè)備是夾套設(shè)計,冷卻水和物料并無直接接觸。所以,既可以讓物料研磨到需要的細度,又可以控制運轉(zhuǎn)過程的溫度,很好的滿足了客戶的要求。KZSD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):

研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。依據(jù)以前的經(jīng)驗,工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應(yīng)用。

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KZSD2000系列研磨分散機的特點:

① 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

 

④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

 

⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

實驗室研磨分散機應(yīng)用領(lǐng)域:

 


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