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半導(dǎo)體芯片超純水系統(tǒng)設(shè)備

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更新時間：2020-09-28 10:59:48瀏覽次數(shù)：878次

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  環(huán)保

純凈水設(shè)備

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純化水設(shè)備

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廣州市旭升環(huán)保工程有限公司

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所在地區(qū)：廣東廣州市

聯(lián)系人：肖韻詩（銷售經(jīng)理）

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)水量	10T	工作壓力	3mpa
規(guī)格	25009001600	進(jìn)水口徑	65mm

半導(dǎo)體芯片超純水系統(tǒng)設(shè)備　
　半導(dǎo)體芯片超純水系統(tǒng)設(shè)備根據(jù)行業(yè)需求，對反滲透設(shè)備進(jìn)行有針對性的完善工作。反滲透設(shè)備主要采用的是反滲透膜分離技術(shù)。反滲透技術(shù)主要是通過以推動力作為壓力，進(jìn)行水質(zhì)凈化。因為過程中沒有發(fā)生變化，反滲透膜只起到篩分的作用，因此消耗能量很低。

詳細(xì)介紹

半導(dǎo)體芯片超純水系統(tǒng)設(shè)備

半導(dǎo)體芯片超純水系統(tǒng)設(shè)備根據(jù)行業(yè)需求，對反滲透設(shè)備進(jìn)行有針對性的完善工作。反滲透設(shè)備主要采用的是反滲透膜分離技術(shù)。反滲透技術(shù)主要是通過以推動力作為壓力，進(jìn)行水質(zhì)凈化。因為過程中沒有發(fā)生變化，反滲透膜只起到篩分的作用，因此消耗能量很低。

超純水設(shè)備系統(tǒng)根據(jù)半導(dǎo)體芯片用水要求，采用當(dāng)今*的全自動CEDI電去離子超純水處理技術(shù)，前置預(yù)處理配套使用加反滲透處理，有效去除水中各種鹽份及雜質(zhì)，然后運用CEDI系統(tǒng)，進(jìn)一步提升水質(zhì)，超純水水質(zhì)*符合半導(dǎo)體超純水用水要求。超純水系統(tǒng)采用全自運控制，科瑞設(shè)備具有產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定、操作簡便、運行費用低、綠色環(huán)保、維護(hù)方便等優(yōu)點，已廣泛應(yīng)用于電子、醫(yī)藥、電力、汽車等相關(guān)行業(yè)。

二、半導(dǎo)體清洗超純水設(shè)備制備工藝

1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝) 反滲透+混床設(shè)備

2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(新工藝)

3、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(新工藝)

4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(新工藝)

5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝) EDI設(shè)備

三、半導(dǎo)體芯片清洗超純水設(shè)備水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)

半導(dǎo)體芯片清洗超純水設(shè)備出水水質(zhì)*符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標(biāo)準(zhǔn)）、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)

關(guān)鍵詞：精密過濾器過濾器