詳細介紹
超聲波半導體材料清洗機設(shè)備1、極少會傷害到被清洗零件。2、能夠洗凈微小的粒子。3、很少會引超洗凈斑,交有良好的洗凈均一性。4、不會產(chǎn)生噪音。5、可清除附近氧化鈰(cerium oxide),二氣化硅(sillicon dioxide)等研磨劑中干燥后的粒子。6、可良好產(chǎn)生及持續(xù)空穴現(xiàn)象(清洗能力強)。7、表面的交換性(exchange of surface contamination)良好,因為污染擴散快,能加強清洗能力,縮短清洗時間。8、DI Water的沖洗性能良好,在清洗過程中即使清洗劑干燥,也可以沖洗。9、可除去固著性的塵埃。10、可*清除0.5μ以下的粒子。超聲波半導體材料清洗機設(shè)備