DLS動態(tài)光散射技術(shù)是非常成熟的N3表征技術(shù)，可用于測量納米體系混懸液的粒度及粒度分布。穩(wěn)定的激光光源照射布朗運(yùn)動的納米顆粒，將致使散射光強(qiáng)發(fā)生波動，光電二極管檢測器獲得這些波動后，通過斯托克斯-愛因斯坦方程可得出粒度信息。DLS只需少量樣品即可完成分析，快速、精確、重復(fù)性好，是目前應(yīng)用N3粒度測量方法。Vasco Kin原位納米粒度監(jiān)測儀以廣為熟知的DLS動態(tài)光散射技術(shù)為基石,集成了穩(wěn)定的光學(xué)單元、靈敏的光電二極管檢測器和靈活的非浸入式探頭,結(jié)合專用的分析軟件和數(shù)學(xué)模型，是一款、針對各類型納米體系中的顆粒尺寸原位監(jiān)測系統(tǒng)。

與傳統(tǒng)DLS相比，Vasco Kin原位納米粒度監(jiān)測儀顯著增大了樣品濃度范圍和粒度的測量范圍。Vasco Kin原位納米粒度監(jiān)測儀不但保持了傳統(tǒng)DLS動態(tài)光散射儀器的高靈敏度和寬適應(yīng)性，還開創(chuàng)性地采用了非浸入式遠(yuǎn)程探頭，將DLS技術(shù)帶入原位過程監(jiān)測的廣泛應(yīng)用場景，并增加了創(chuàng)新的時(shí)間關(guān)聯(lián)功能。

原位納米粒度監(jiān)測儀特點(diǎn)：

流體動力學(xué)分析

高速數(shù)據(jù)采集，實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)處理

集成化程度高，無運(yùn)動部件，維護(hù)和使用成本低

模塊化設(shè)計(jì)，可更換探頭，一機(jī)多能，一機(jī)多用

測試靈活，可根據(jù)樣品濃度及透光性調(diào)整工作距離和散射角

時(shí)間切片，可選取監(jiān)測曲線中的任意時(shí)間段進(jìn)行粒徑分析

超低延時(shí)，無需頻繁采樣，原位監(jiān)測納米顆粒的變化過程

操作簡便，非浸入式探頭，無需批量稀釋，無需樣品預(yù)處理

適用性好，配備背散射技術(shù)，原濃或深色的不透明樣品同樣適用

應(yīng)用領(lǐng)域：

實(shí)時(shí)監(jiān)控納米顆粒合成工藝、提高懸浮穩(wěn)定性等

原位測量(在反應(yīng)器、高壓滅菌器、密封小瓶等裝置內(nèi)部進(jìn)行測量)

將粒度測量與其他光譜法(X 射線小角散射、小角中子散射、拉曼光譜法、紫外-可見光譜法等) 相結(jié)合