氣相氧化鋁高剪切分散機,納米氧化鋁高剪切分散機,氧化鋁高剪切均質(zhì)分散機,節(jié)能燈氧化鋁高剪切分散機

氣相法氧化鋁產(chǎn)品具有許多特殊的物理化學特性，例如，納米級顆粒，高純度，低含水量，這些特性都成為當今高質(zhì)量熒光燈涂層解決方案中至關(guān)重要的一部分。氧化鋁反射透過熒光粉層的紫外光，使其繼續(xù)激發(fā)熒光粉，提高了熒光燈的發(fā)光效率，第二，氧化鋁作為有效的汞擴散阻擋層，可將汞的用量降到低限度，能夠延長燈的使用壽命，第三，氧化鋁作為粘結(jié)劑能夠提高熒光粉和玻璃燈管之間的粘結(jié)強度，使熒光粉不脫落。

二、氧化鋁的核心應用

氧化鋁具有硬度高、化學穩(wěn)定性好等優(yōu)點，已被廣泛應用在陶瓷、無機膜、研磨拋光材料等領(lǐng)域。用作分析試劑、有機溶劑的脫水、吸附劑、催化劑、冶煉鋁的原料、耐火材料。

二、氧化鋁的分散問題

近年來，已超細氧化鋁粉體研制功能陶瓷材料和新型功能復合材料受到人們的廣泛關(guān)注。但超細氧化鋁粉體比表面積大，表面活性高，單個超細顆粒往往處于不穩(wěn)定狀態(tài)，顆粒之間因為相互吸引而團聚，易于失去超細粉體*的性能，因此超細氧化鋁粉體的分散，是超細氧化鋁粉體走向?qū)嵱没年P(guān)鍵。

在水溶液中，氧化鋁漿料中的亞微米機微粒由于受靜電引力等作用發(fā)生團聚，出現(xiàn)絮凝，分層等現(xiàn)象，破壞漿料的分散穩(wěn)定性。為此漿料的分散穩(wěn)定性成為人們研究的重點。影響穩(wěn)定性的因素有很多，如：分散劑種類及用量、分散設(shè)備的選擇、粉體的粒度及表面性質(zhì)、PH值、溫度等。

當物料工藝確定后，影響分散穩(wěn)定性的因素就是漿料中粒子的半徑，半徑越小，沉降越慢、穩(wěn)定性越高。這種情況下要提高分散穩(wěn)定性就必須選用高品質(zhì)的分散設(shè)備，來獲得更好的物料粒徑，提高分散的均勻性，*KZSD2000系列研磨分散機，*的結(jié)構(gòu)，膠體磨+分散機一體化設(shè)備，14000rpm超高轉(zhuǎn)速，效果好、效率高。

四、氧化鋁水性漿料分散設(shè)備*

結(jié)合多家化工企業(yè)案例，我司*KZSD2000系列研磨式超高速分散機進行氧化鋁的研磨和分散，一般可獲得超細的物料粒徑，一般為2μm左右。當然還要看具體的物料工藝，以及原始狀態(tài)。

五、ZKE氧化鋁水性漿料分散機結(jié)構(gòu)

*水性漿料分散機，是由膠體磨和分散機組合而成的設(shè)備，轉(zhuǎn)速高達14000rpm，強大的剪切力。膠體磨磨頭配合分散機分散盤，先研磨后分散。這種特殊的設(shè)計的優(yōu)勢在于，粒子細化之后容易出現(xiàn)絮凝現(xiàn)象，所以此時分散十分重要，而砂磨機難以分散。
KZD2000系列研磨分散設(shè)備是ZKE（太倉）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三層變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

六、氣相氧化鋁高剪切分散機水性漿料分散機選型表