詳細(xì)介紹
石墨烯納米材料插層法研磨分散機(jī) 石墨烯 溶膠-凝膠法、納米粒子原位生成法、共混法,納米材料 原位聚合法、聚合物溶液插入法和聚合物融體插入法 納米材料插層法研磨分散機(jī),插層法研磨分散機(jī) 納米材料研磨分散機(jī) 是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的物質(zhì)的混合過程。工業(yè)分散的目標(biāo)是在連續(xù)相中實(shí)現(xiàn)“令人滿意的”精細(xì)分布。
目前.其制備方法主要有以下四種:插層法、溶膠-凝膠法、納米粒子原位生成法、共混法。
插層法 插層法是將有機(jī)單體或聚合物插入到層狀無機(jī)物的片層之間,利用熱力學(xué)或力化學(xué)作用使片層剝離成納米尺度的初級(jí)粒子并均勻分散在聚合物基體中,從而形成納米復(fù)合材判的方法。層狀無機(jī)物主要有層狀硅酸鹽(黏土、島領(lǐng)土、海泡石、蒙脫土等)以及磷酸鹽、石墨、層狀金屬化合物等。其結(jié)構(gòu)特點(diǎn)是:呈層狀,每層結(jié)構(gòu)緊密,但層間存在空隙,每層厚度和層間距離尺寸都在納米級(jí)。按聚合物插入到無機(jī)物片層間的方法,插層型納米復(fù)
合材料的復(fù)合又可分為單體插入—原位聚合法、聚合物溶液插入法和聚合物融體插入法三大類類.
插層納米復(fù)合材料的結(jié)構(gòu)可以分為插層型和剝離型兩種。
前者是在層狀無機(jī)物的層間插入一屏能伸展的聚合物鏈,從而獲得聚合物與無機(jī)物交替疊加的有序的多層體;而剝離型則是無機(jī)物剝離并分散在連續(xù)的聚合物基質(zhì)中。對(duì)于插層法而言,無機(jī)物剝離并均勻地分散于聚合物基體中是該法制備納米復(fù)合材料的關(guān)鍵,只有無機(jī)物剝離并均勻分散,才可能制得高性能的納米復(fù)合材料。每種插層客體都有可能產(chǎn)生兩種插層結(jié)構(gòu),至于形成的復(fù)合材料屬于哪—種,涉及的影響因素較多??傮w來說.還是插層型多,剝離型少。所以,插層法制備納米復(fù)合材料的關(guān)鍵在于如何解決層狀無機(jī)物的剝離問題。
在插層型納米復(fù)合材料中.這些層狀無機(jī)物對(duì)復(fù)合材料的綜合性能有著重要的影響,特別是對(duì)復(fù)合材料的力學(xué)性能。
插層法的優(yōu)點(diǎn)在于原料來源豐富、價(jià)廉,層狀無機(jī)物只是一維方向上處于納米級(jí),不會(huì)像一般納米粒子那樣易團(tuán)聚,分散也較容易,可顯著提高聚合物的耐熱性和尺寸穩(wěn)定性;但此法只適用于黏土或其他層狀物.限制了其應(yīng)用范圍.
納米材料如何均勻分散在聚合物基體是一個(gè)難點(diǎn)
顆粒細(xì)化到納米級(jí)后,其表面積累了大量的正、負(fù)電荷,納米顆粒的形狀極不規(guī)則,這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加,當(dāng)降至1nm時(shí),表面原子比例高達(dá)90%,原子幾乎全部集中到顆粒表面,處于高度活化狀態(tài),導(dǎo)致表面原子配位數(shù)不足和高表面能。納米顆粒具有很高的化學(xué)活性,表現(xiàn)出強(qiáng)烈的表面效應(yīng),很容易發(fā)生聚集而達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài),從而團(tuán)聚發(fā)生
*納米氧化物極易產(chǎn)生自身的團(tuán)聚,使得應(yīng)有的性能難以充分發(fā)揮。此外,納米氧化物的諸多奇異性能能否得到充分發(fā)揮,還取決于**限度降低粉體與介質(zhì)間的表面張力。因此,納米氧化物粉體必須均勻分散,充分打開其團(tuán)聚體,才能發(fā)揮其應(yīng)有的奇異性能。
石墨烯納米材料插層法研磨分散機(jī)納米材料插層法研磨分散機(jī),插層法研磨分散機(jī) 納米材料研磨分散機(jī)
研磨分散機(jī)是由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
研磨分散機(jī)的細(xì)化作用一般來說要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī),但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)(如高粘度、大顆粒),所以在很多場(chǎng)合下,它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。
研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
**級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
KZSD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無菌級(jí)
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
KZSD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
KZSD 2000/5 | 3000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
KZSD 2000/10 | 8000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
KZSD 2000/20 | 20000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
KZSD 2000/30 | 40000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
KZSD2000/50 | 120000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%。 |
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產(chǎn)品的要求。
3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。
4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng),定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn)。
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