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拋光液過濾

拋光液過濾濾芯-拋光液澄清過濾-拋光液預(yù)過濾-拋光液終端過濾

化學(xué)機(jī)械平坦化（簡稱CMP），又稱化學(xué)機(jī)械拋光，是機(jī)械消磨和化學(xué)腐蝕的組合技術(shù)。它借助超微粒子的研磨作用和化學(xué)腐蝕作用，在被研磨的介質(zhì)表面形成光潔平坦表面。CMP技術(shù)是一項(xiàng)新型的拋光技術(shù)，主要適用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。CMP過程的主要組成部分是拋光工件、拋光墊、和拋光液。拋光液一般有磨料、氧化劑及平衡溶劑，如去離子水或醇組成，根據(jù)一些具體情況還含有一些助劑，拋光液通過溶液化學(xué)提供化學(xué)作用，通過磨料提供了機(jī)械作用。磨料在向拋光表面?zhèn)鬟f機(jī)械性能的過程中發(fā)揮著重要作用，要達(dá)到較好的拋光效果，就必須控制磨料的顆粒大小，硬度和分散度。磨料尺寸需<1um，磨料的尺寸過大或過小均會(huì)使被拋光表面劃痕增加，降低拋光質(zhì)量，過濾拋光液是一種改善拋光質(zhì)量的方法，選擇合適的過濾系統(tǒng)可有效提供拋光液的拋光性能。

濾源公司提供的過濾器或過濾系統(tǒng)已成為拋光液過濾的！

過濾目的：去除超大顆粒，凝聚塊等雜質(zhì)粒子，而保留合適的磨料粒子。

應(yīng)用要求：

A:過濾過程中濾材的溶出物低，無介質(zhì)脫落。

B：過濾器已經(jīng)經(jīng)過純水沖洗，總有機(jī)碳（TOC）含量在規(guī)定范圍內(nèi)。

C：終端過濾器具有良好的雜質(zhì)粒子控制可靠性、持久性，當(dāng)流量或壓力發(fā)生變化時(shí)，污染物不會(huì)卸載。

D:流量高，結(jié)構(gòu)堅(jiān)固，過濾能力強(qiáng)，可滿足拋光液的過濾要求。

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