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分子篩漿料高速膠體磨

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  • 型號 CMSD2000
  • 品牌
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 上海

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更新時(shí)間:2017-06-13 15:57:36瀏覽次數(shù):710

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產(chǎn)品簡介

分子篩漿料高速膠體磨,分子篩高分子高剪切膠體磨,分子篩高分子漿料研磨機(jī),分子篩漿料高速剪切膠體磨,分子篩高分子研磨機(jī),分子篩漿料膠體磨 ,氧化鋁高速膠體磨是是由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定,轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力,摩擦力,高頻振動(dòng)等物理

詳細(xì)介紹

分子篩漿料高速膠體磨,分子篩高分子高剪切膠體磨,分子篩高分子漿料研磨機(jī),分子篩漿料高速剪切膠體磨,分子篩高分子研磨機(jī),分子篩漿料膠體磨 ,氧化鋁高速膠體磨是是由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定,轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力,摩擦力,高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化,分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化 分散 的效果。詳情請接洽上海依肯,段,手機(jī),(同號) 

 

 分子篩漿料分子篩是指具有均勻的微孔,其孔徑與一般分子大小相當(dāng)?shù)囊活愇镔|(zhì)。分子篩的應(yīng)用非常廣泛,可以作高效干燥劑,選擇性吸附劑,催化劑,離子交換劑等,但是使用化學(xué)原料合成分子篩的成本很高。常用分子篩為結(jié)晶態(tài)的硅酸鹽或硅鋁酸鹽,是由硅氧四面體或鋁氧四面體通過氧橋鍵相連而形成分子尺寸大?。ㄍǔ?.3~2 nm)的孔道和空腔體系,因吸附分子大小和形狀不同而具有篩分大小不同的流體分子的能力。分散頭

 

漿料的淹沒效果分析

影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

 

膠體磨磨頭頭的剪切速率 (越大,效果越好)

膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)

物料在研磨腔體的停留時(shí)間,研磨粉碎時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)

循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)

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線速度的計(jì)算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) = 速率 (m/s) 
-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN -轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

 

速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)轉(zhuǎn)速 RPM / 60

 

IKN納米膠體磨與國內(nèi)膠體磨的性能比較:

 

一,轉(zhuǎn)速和剪切速率:IKN納米膠體磨,可選擇德國機(jī)械密封,轉(zhuǎn)速可以達(dá)到15000轉(zhuǎn)F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1國內(nèi)膠體磨,可選擇機(jī)械密封一般3000轉(zhuǎn),大約在14293-215440S-1通過轉(zhuǎn)速比較可知,這是乳粉碎研磨的重要因素,相當(dāng)于前者是后者的2-3倍

分散頭

二,膠體磨頭和間距:IKN納米膠體磨,可以選擇六種不同的模塊頭,實(shí)現(xiàn)多種功能,如三級乳化模塊,超高速模塊,CM膠體模塊,CMO膠體模塊,批次粉液液混合模塊,連續(xù)粉液混合模塊。間距可調(diào),可實(shí)現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工國內(nèi)膠體磨,只有一種模塊頭,粒徑細(xì)度有限,100微米以下較困難,重復(fù)性差

 

三,機(jī)械密封:IKN納米膠體磨,雙機(jī)械密封,易于清洗,將泄漏降至zui低,可24小時(shí)不停運(yùn)轉(zhuǎn)國內(nèi)膠體磨,單機(jī)械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá),造成馬達(dá)燒毀

磨具體設(shè)備咨詢:

 

定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。

②齒列的深度:從開始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。
③溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

 

氧化鋁漿料膠體磨,分子篩漿料膠體磨 ,氧化鋁高速膠體磨

附件中是我公司物料的一部分性質(zhì),請根據(jù)物料性質(zhì),簡單判斷一下,大約需要做多少次試驗(yàn)。

2,目前我公司輸送該物料用的是砂漿泵,非轉(zhuǎn)子泵。

3,我們的目的是用膠體磨把大于100微米的顆粒粉碎至50微米以下。

4,顆粒主要成分為硅鋁酸鹽,硬度較硬,但硬度我們沒有數(shù)據(jù)。

5,我們6月1日投產(chǎn),以后都有物料,可以進(jìn)行試驗(yàn)。

6,物料易沉淀,沉淀后很難重新混合。

 

的細(xì)化作用一般來說要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī),但它對物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)(如高粘度,大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場合。

研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯斔托缘囊蠓矫?特別要引起注意的是:在粗精度,中等精度,細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù),狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設(shè)備等級:化工級,衛(wèi)生I級,衛(wèi)生II級,無菌級

電機(jī)形式:普通馬達(dá),變頻調(diào)速馬達(dá),防爆馬達(dá),變頻防爆馬達(dá),
電源選擇: 380V/50HZ,220V/60HZ,440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù),降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 ,SUS316L ,SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲液罐,排污閥,變頻器,電控箱,移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理:拋光,耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭,螺口,夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

研磨分散機(jī)

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

3000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

8000

4,200

23

22

DN80/DN65

CMD 2000/20

20000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

40000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

120000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

 

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