膠體磨使材料受到強大的剪切力、摩擦力和高頻振動。有效粉碎、乳化、均質(zhì)、溫合，得到滿意的精細加工產(chǎn)品。
膠體磨的工作原理
膠體磨在高速下經(jīng)受不同幾何形狀的定子和轉(zhuǎn)子的相對運動。在自重、壓力和離心力的作用下，加工后的材料受到強剪切力、摩擦力、沖擊力、高頻振動等的影響完成研磨。通過自重、壓力和離心力的作用，有效地分散和破碎物料，經(jīng)過粉碎，乳化，混合得到理想的產(chǎn)品。它是基于研磨盤斜面的相對運動，定子固定不動，轉(zhuǎn)子在電機的帶動下高速旋轉(zhuǎn)，使物料在定子和轉(zhuǎn)子之間受到強力的剪切摩擦，并進行有效的研磨、乳化、粉碎、分散。材料在高頻振動和高速惠而浦作用下的均勻化。獲得了超細微粒粉碎的效果。膠體磨的基本原理是，通過高速和相對連續(xù)的運動，流體或半流體材料位于固定齒和活動齒之間，從而使材料受到強大的剪切力、摩擦力和高頻振動，在有效粉碎、乳化、均質(zhì)后，取得滿意的加工效果。精細加工產(chǎn)品。膠體磨是剪切、磨削和高速攪拌于一體的設(shè)備。磨削取決于兩個齒面的相對運動，其中一個是高速旋轉(zhuǎn)而另一個是靜止的，從而使材料通過齒面受到很大的剪切力和摩擦力。同時，該材料在高頻振動和高速渦流作用下有效分散、漂浮、粉碎、均勻化。
膠體磨的應(yīng)用
在實際應(yīng)用中，膠體磨不僅局限于“膠體”類材料的加工，而且可用于各種流體、半流體、乳膏、甚至具有一定濕度或油性的固體軟材料的研磨、分散、乳化和均質(zhì)。膠體磨廣泛應(yīng)用于現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)中。精細材料bi備設(shè)備。膠體磨用于破碎、乳化、均質(zhì)和混合流體或半流體材料，以獲得滿意的精細加工產(chǎn)品。膠體磨是一種離心乳化設(shè)備。它的通用性很強。它廣泛應(yīng)用于食品、醫(yī)藥、生物、化工等領(lǐng)域。該設(shè)備可處理高粘度和大顆粒物料，因此在高壓均質(zhì)機的前處理過程中有許多場合使用。當(dāng)固體材料較多時，通常采用膠體磨進行精煉。膠體磨主要由磨頭部分、底座傳動部分和專用電機組成。機器重要的部分是機芯的運動部件和靜盤和機械密封的組合部件。因此，根據(jù)被加工材料的性質(zhì)，選擇必須不同的膠體磨。
目前國內(nèi)大多數(shù)廠家采用guo產(chǎn)膠體磨進行固液混合漿料研磨粒徑，提取率較低，工作時間長，生產(chǎn)效率低，顆粒還比較大。因為本身國nei膠體磨的設(shè)備比較落后，轉(zhuǎn)速一般都為3000rpm，并且磨頭加工比較粗糙。導(dǎo)致研磨能力低，一般用于物料的粗磨。而上海IKN，引進德國核心部件，IKN高剪切膠體磨轉(zhuǎn)速高達14000rpm，是guo產(chǎn)的4-5倍，加上精密的磨頭，效果好，效率高。另外IKN基礎(chǔ)上又研發(fā)出改良型膠體磨，研磨效果會更好。
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從設(shè)備角度分析，影響研磨效果的因素：
1 磨頭的形式（臥式和立式）
2 磨頭的剪切速率
3 磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（見磨頭結(jié)構(gòu)）
4 物料在磨頭墻體的停留時間，乳化分散時間
5 循環(huán)次數(shù)
研磨速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
由上可知，研磨速率取決于以下因素：
– 磨頭的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 （相對而言）
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
IKN高速納米膠體磨是一種對液體狀物料或加有液體的物料的循環(huán)粉碎研磨裝置及對該物料進行循環(huán)粉碎研磨的方法。
上海依肯CM2000系列的特點：
①定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有經(jīng)細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無線制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。
②齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。
③溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
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