EDI設(shè)備

一、EDI設(shè)備簡(jiǎn)介

化工超純水設(shè)備通常都會(huì)安裝有預(yù)處理系統(tǒng)，因?yàn)镋DI模塊的進(jìn)水要求相對(duì)來說較高，所以必須經(jīng)過前期處理才能流入EDI模塊，預(yù)處理系統(tǒng)通常分 為四級(jí)，所謂四級(jí)預(yù)處理系統(tǒng)，其實(shí)就是由四個(gè)不同的過濾器組成的，經(jīng)過四級(jí)預(yù)處理之后水中的大顆粒物質(zhì)、硬質(zhì)離子以及余氯等物質(zhì)都會(huì)被去除掉。經(jīng)過預(yù)處理 之后的水可以進(jìn)入反滲透主機(jī)以及EDI模塊進(jìn)行進(jìn)一步的濾除等功能，經(jīng)過這兩步處理之后的水能夠滿足化工生產(chǎn)用水要求，但是有些企業(yè)還要求水中不能含有微 生物等細(xì)菌，所以還需要在超純水設(shè)備后面安裝有消毒殺菌裝置。

二、EDI設(shè)備主要特點(diǎn)

1.產(chǎn)生水質(zhì)高而具有較佳的穩(wěn)定度高。

2.連續(xù)不間斷制水，不因再生而停機(jī)。

3.模塊化生產(chǎn)，并可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制。

4.不須酸堿再生，無污水排放良性。

5.無酸堿再生，無污水排放。

6.設(shè)備結(jié)果緊湊，占地面積小。

7.運(yùn)行費(fèi)用及維修成本低。

8.運(yùn)行操作簡(jiǎn)單，勞動(dòng)強(qiáng)度低 。

三、EDI設(shè)備工藝流程

四、EDI設(shè)備技術(shù)參數(shù)

1.給水：RO純水，一般水的導(dǎo)電率為4-30us/cmo

2.PH:5.0-8.0(在此PH條件下，水硬度不能太高)

3.溫度：5-35°C

4.進(jìn)水壓力：較大為4KG/cm2（60psi）較小為1.5kg/cm22（25psi）

五、EDI設(shè)備適用場(chǎng)景

超純水經(jīng)常用于微電子工業(yè)、半導(dǎo)體工業(yè)、發(fā)電工業(yè)、制藥行業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。EDI純水也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、化工廠工藝用水以及其他超純水應(yīng)用領(lǐng)域。