半導體用純水處理設備,單晶硅用純水處理設備,集成電路用純水處理設備,超大范圍集成電路用(又稱超純水機、超純水設備等),顯象管用高純水設備(高純水制取裝置),觸摸屏用超水設備,液晶顯示用超水設備,高精度線路板用純水處理設備,光學、光電類器件用純水處理設備,各類電子器件用純水處理設備,微電子工業(yè)用超純水設備(光電等行業(yè)中電路所需制取超純水的裝置)、 IC 芯片封裝行業(yè)用高純水設備(高純水制取裝置),太陽能硅片清洗用純水處理設備, LCD 清洗用超純水設備。

具體介紹

工業(yè)(又稱超純水機、超純水設備等)/半導體用純水處理系統(tǒng)

工業(yè)(又稱超純水機、超純水設備等)的利用范疇
◆半導體、單晶硅、集成電路、超大范圍集成電路,顯象管、觸摸屏、液晶顯示,高精度線路板,光學、光電類器件,各類電子器件,微電子工業(yè)、IC 芯片封裝行業(yè),太陽能硅片清洗、 LCD 清洗等.
◆醫(yī)藥行業(yè)用水，對于超純水。生物、生化實驗室用水,制藥行業(yè),無菌、無熱源注射用水、制劑工藝用水，病院血液透析用水、生化分析用水、輸液醫(yī)藥用水等。 

◆熱電廠用水處理、冶金工業(yè)用水處理、航天工業(yè)、汽車工業(yè)等.
◆制取熱力、火力、渦輪發(fā)電鍋爐用水，廠礦企業(yè)中、高壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水。
工業(yè)(又稱超純水機、超純水設備等)/半導體用超純去離子水(指除去了呈離子方式雜質后的純水)設備工藝流程 ◆工業(yè)(又稱超純水機、超純水設備等)/半導體用超純去離子水(指除去了呈離子方式雜質后的純水)設備傳統(tǒng)工藝:
原水(設有壓力保護)→增壓泵(一用一備)→砂過濾器→炭過濾器→緊密過濾器(或稱保安過濾器)→陽離子樹脂交換柱→陰離子樹脂交換柱→陰陽離子樹脂交換混床→終端緊密過濾→UV紫外線殺菌→設備用水（水質可以達到15MΩ.cm以上即0.066μs/ ㎝以下,25 ℃）. ◆工業(yè)(又稱超純水機、超純水設備等)/半導體用超純去離子水(指除去了呈離子方式雜質后的純水)設備新工藝一:
原水(設有壓力保護)→增壓泵→砂過濾器→炭過濾器→軟化器(根據地區(qū)不合選用)→緊密過濾器(或稱保安過濾器)→兩頭水箱→RO前水泵→緊密過濾器(或稱保安過濾器)→RO高壓泵→RO反滲透系統(tǒng)→RO水箱→RO水增壓泵→混床→終端緊密過濾→UV紫外線殺菌→設備用水（水質可以達到15MΩ.cm以上即0.066μs/ ㎝以下,25 ℃）
◆工業(yè)(又稱超純水機、超純水設備等)/半導體用超純去離子水(指除去了呈離子方式雜質后的純水)設備新工藝二:
原水(設有壓力保護)→增壓泵(一用一備)→砂過濾器→炭過濾器→軟化器(根據地區(qū)不合選用)→緊密過濾器(或稱保安過濾器)→兩頭水箱→RO前水泵→緊密過濾器(或稱保安過濾器)→RO高壓泵→RO反滲透系統(tǒng)→RO水箱→RO水增壓泵→普通混床→拋光混床→終端緊密過濾→UV紫外線殺菌→設備用水（水質可以達到18MΩ.cm以上即0.056μs/ ㎝以下,25 ℃）