普通型硅片檢測(cè)顯微鏡 TGB-200詳細(xì)技術(shù)參數(shù)
一、儀器用途
TGB-200 硅片檢測(cè)顯微鏡主要用于太陽(yáng)能電池硅片的觀(guān)察.它能生產(chǎn)高清晰的圖像,立體感較強(qiáng)，成像較清晰和寬闊，又具有長(zhǎng)工作距離，并具有較大的視場(chǎng)范圍和相應(yīng)的放大倍數(shù),配有高像素的數(shù)碼攝像頭,可以很清楚地看到硅片的”金字塔” 的微觀(guān)形貌分布情況,及硅片的缺陷分析服務(wù).是太陽(yáng)能電池硅片的普遍專(zhuān)用顯微鏡。
硅片檢測(cè)顯微鏡可以觀(guān)察到肉眼難觀(guān)測(cè)的位錯(cuò)、劃痕、崩邊等;還可以對(duì)硅片的雜質(zhì)、殘留物成分分析.雜質(zhì)包括 顆粒、有機(jī)雜質(zhì)、無(wú)機(jī)雜質(zhì)、金屬離子、硅粉粉塵等，造成磨片后的硅片易發(fā)生變花、發(fā)藍(lán)、發(fā)黑等現(xiàn)象，使磨片不合格. 是太陽(yáng)能電池硅片生產(chǎn)企業(yè)進(jìn)行質(zhì)量控制最普通的儀器。
硅片檢測(cè)顯微鏡可以觀(guān)察到肉眼難觀(guān)測(cè)的位錯(cuò)、劃痕、崩邊等;還可以對(duì)硅片的雜質(zhì)、殘留物成分分析.雜質(zhì)包括 顆粒、有機(jī)雜質(zhì)、無(wú)機(jī)雜質(zhì)、金屬離子、硅粉粉塵等，造成磨片后的硅片易發(fā)生變花、發(fā)藍(lán)、發(fā)黑等現(xiàn)象，使磨片不合格. 是太陽(yáng)能電池硅片生產(chǎn)企業(yè)進(jìn)行質(zhì)量控制最普通的儀器。
二、技術(shù)參數(shù)
1.目鏡
| 類(lèi)型 | 放大倍數(shù) | 視場(chǎng)(mm) |
| 大視野目鏡 | 10X | Φ16 |
2.物鏡
| 類(lèi)別 | 放大倍數(shù) | 數(shù)值孔徑(NA) | 工作距離(mm) |
| 平場(chǎng)消色差物鏡 （無(wú)蓋玻片） | 5X | 0.12 | 18.3 |
| 10X | 0.25 | 8.9 | |
| 40X | 0.60 | 3.7 | |
| 60X | 0.85 | 0.26 |
3.光學(xué)放大倍數(shù)：50X 100X 400X 600X
系統(tǒng)參考放大倍數(shù)：50X-4000X
4.載物臺(tái)：尺寸 185mm*140mm 移動(dòng)范圍 75mm*50mm
5.調(diào)焦系統(tǒng)：帶限位和調(diào)節(jié)松緊裝置的同軸粗微動(dòng) 微動(dòng)格值 0.002mm
6.濾色片組：轉(zhuǎn)盤(pán)式，黃色、藍(lán)色、綠色、磨砂玻璃
7.偏光裝置：可插入式起偏振片和三目頭內(nèi)置檢偏振片
8.照明系統(tǒng)：6V/20W鹵素?zé)簦炼瓤烧{(diào)；220V（50Hz）
9.防霉:的防霉系統(tǒng)
10.成像系統(tǒng):高像素的日本JVC攝像頭
系統(tǒng)參考放大倍數(shù)：50X-4000X
4.載物臺(tái)：尺寸 185mm*140mm 移動(dòng)范圍 75mm*50mm
5.調(diào)焦系統(tǒng)：帶限位和調(diào)節(jié)松緊裝置的同軸粗微動(dòng) 微動(dòng)格值 0.002mm
6.濾色片組：轉(zhuǎn)盤(pán)式，黃色、藍(lán)色、綠色、磨砂玻璃
7.偏光裝置：可插入式起偏振片和三目頭內(nèi)置檢偏振片
8.照明系統(tǒng)：6V/20W鹵素?zé)簦炼瓤烧{(diào)；220V（50Hz）
9.防霉:的防霉系統(tǒng)
10.成像系統(tǒng):高像素的日本JVC攝像頭
三、系統(tǒng)組成
(TGB-200)：1.硅片顯微微 2.適配鏡 3.CCD攝像器 4.A/D圖像采集卡
四、總放大參考倍數(shù)
TGB-200：50--4000倍
五、選購(gòu)件
1.圖像測(cè)量軟件 2.目鏡： 20X 10X(帶刻度) 3.物鏡：20X 80X 10X干
