武安鍋爐全程水處理器
全程綜合水處理器主要由碳鋼筒體、特殊結(jié)構(gòu)的不銹鋼濾網(wǎng)、高頻電磁場發(fā)生器及排污裝置等組成，自動型（Z型）在手動型基礎(chǔ)上增設(shè)了控制單元、傳感器和電動排污裝置，可實(shí)現(xiàn)自動化運(yùn)行，無需人工干預(yù)。自動清洗型（ZS型）在自動型的基礎(chǔ)上加裝有自清洗裝置，能夠自行清洗水處理器過濾單元，使得處理器的功能更加完善。
除垢防垢 由高頻發(fā)生器產(chǎn)生高頻電磁場對水進(jìn)行處理，使原有的大締合體狀態(tài)水的結(jié)合鍵被深度打斷，離解成活性很強(qiáng)的單分子或小締合體狀態(tài)的水，從而改變了水的物理結(jié)構(gòu)與特性，增強(qiáng)了水分子的極性，增大了水分子的偶極矩，提高了水分子對鈣鎂離子、碳酸根離子等成垢組份的水合能力，起到防止水垢形成的作用。
高頻電磁場水應(yīng)用于防垢，是由于其存在大量的"離子締合體"或"顆粒締合體"，在水溶液中提供了大量的結(jié)晶核心。結(jié)晶核心越多，生成的結(jié)晶數(shù)量也越多，水垢結(jié)晶的線性尺寸就越小。此外，由于單個或雙氫聯(lián)結(jié)的水分子數(shù)量增多，水分子的活動更"自由"，它占據(jù)水溶液的其它空隙，象形成極薄的膜一樣，因而阻礙晶體生長，促使水垢結(jié)晶線性尺寸減小，使水垢呈松軟的細(xì)小顆粒，隨排污水排除。
武安鍋爐全程水處理器
防腐阻銹 氧化腐蝕和垢下原電池腐蝕是水系統(tǒng)管道及設(shè)備腐蝕和生銹的主要原因，而在高頻電磁場的作用下，水垢得以控制，溶解氧與水分子結(jié)合不易析出，從而抑制氧化腐蝕和垢下原電池腐蝕的發(fā)生，從而起到良好的防腐阻銹的作用。
滅藻 電場處理水過程中，溶解氧得到活化，產(chǎn)生O2-、·OH、H2O2以及1O2等活性氧（O2-是超氧陰離子自由基，·OH是羥基自由基，H2O2是過氧化氫，1O2是單線態(tài)氧）?；钚匝踝杂苫軐ξ⑸餀C(jī)體產(chǎn)生殺滅作用，是造成微生物衰老的主要原因。O2-可損傷重要的生物大分子，造成微生物機(jī)體損傷；O2-增加微生物集體膜脂過氧化，加速衰老。因而達(dá)到滅藻的效果。
超凈過濾 梓榮全程綜合水處理器內(nèi)置特殊結(jié)構(gòu)的不銹鋼濾筒，在滿足較大流量的同時，能夠更高的過濾精度要求，濾筒的特殊結(jié)構(gòu)能夠在設(shè)備反沖洗排污時，使反洗水更強(qiáng)的噴射效果，將附著在濾筒內(nèi)壁的雜質(zhì)沖洗掉，經(jīng)排污閥排除在本體外。
