20T/H反滲透超純水設(shè)備技術(shù)的應(yīng)用使反滲透超純水設(shè)備從傳統(tǒng)的陽(yáng)離子交換器、脫碳、陰離子交換器、復(fù)合離子交換器得到了一次進(jìn)步。
20T/H反滲透超純水設(shè)備產(chǎn)水下限0.25m3/小時(shí)，上限100噸/小時(shí)，水回收率一般可達(dá)75%以上，脫鹽率>98%。反滲透超純水設(shè)備產(chǎn)水量隨進(jìn)水溫度下降和反滲透膜老化或受污染有一定變化。
20T/H反滲透超純水設(shè)備設(shè)計(jì)原則
品質(zhì)—依照客戶生產(chǎn)所需超純水的水質(zhì)要求及生產(chǎn)特點(diǎn)，并考慮水源的水質(zhì)(需客戶提供水質(zhì)分析報(bào)告或源水樣品)。
可擴(kuò)充性—系統(tǒng)分段設(shè)計(jì)規(guī)劃，考慮就近用水和生產(chǎn)安全需要，可依照生產(chǎn)線需求隨時(shí)擴(kuò)充產(chǎn)能，客戶可分階段投資。
20T/H反滲透超純水設(shè)備制造技術(shù)
反滲透是用足夠的壓力使溶液中的溶劑(一般常指水)通過反滲透膜(一種半透膜)而分離出來(lái)，方向與滲透方向相反，可使用大于滲透壓的反滲透法進(jìn)行分離、提純和濃縮溶液。反滲透膜的主要分離對(duì)象是溶液中的離子范圍。
20T/H反滲透超純水設(shè)備優(yōu)點(diǎn)
?、俨恍杓訜?、沒有相變。
?、谀芎纳?，過程連續(xù)穩(wěn)定。
?、墼O(shè)備體積小、操作簡(jiǎn)單，適應(yīng)性強(qiáng)。
?、軐?duì)環(huán)境不產(chǎn)生污染。
20T/H反滲透超純水設(shè)備根據(jù)不同的原水水質(zhì)采用不同的工藝。一般自來(lái)水經(jīng)一級(jí)反滲透系統(tǒng)處理后，產(chǎn)水電導(dǎo)率<10-20μS/cm，經(jīng)二級(jí)反滲透系統(tǒng)后產(chǎn)水電導(dǎo)率<5μS/cm甚至更低，在反滲透系統(tǒng)后輔以離子交換設(shè)備或EDI設(shè)備可以制備超純水，使電阻率高達(dá)18兆歐姆.厘米。 反滲透膜老化或受污染后，產(chǎn)水質(zhì)量會(huì)下降。
20T/H反滲透超純水設(shè)備工藝流程
1、預(yù)處理→反滲透→純化水箱→離子交換器→紫外燈→純水泵→用水點(diǎn)
2、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)→純化水箱→純水泵→紫外燈→用水點(diǎn)
3、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→中間水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外燈→用水點(diǎn)
4、預(yù)處理→紫外線殺菌裝置→一級(jí)RO裝置→二級(jí)RO裝置→中間水箱→EDI裝置→脫氧裝置→氮封純水箱→除TOC UV裝置→拋光混床→超濾裝置→用水點(diǎn)
水質(zhì)符合美國(guó)ASTM標(biāo)準(zhǔn)，電子部超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級(jí))
20T/H反滲透超純水設(shè)備廣泛應(yīng)用于
電子工業(yè)用水：集成電路、硅晶片、顯示管等電子元器件沖洗水。
制藥行業(yè)用水：制藥行業(yè)用水、大輸液、針劑、片劑、生化制品、設(shè)備清洗等。
化工行業(yè)工藝用水：化工循環(huán)水、化工產(chǎn)品制造等。
電力行業(yè)：鍋爐補(bǔ)給水 火力發(fā)電鍋爐、廠礦中低壓鍋爐動(dòng)力系統(tǒng)等。
食品工業(yè)用水：飲用純凈水、飲料、啤酒、白酒、保健品等。
海水、苦咸水淡化：海島、艦船、海上鉆井平臺(tái)、苦咸水地區(qū)等。
飲用純凈水：房產(chǎn)物業(yè)、社區(qū)、企事業(yè)單位等。
超聲波清洗用水：電腦配件、特種材料、精密機(jī)械等要求高清潔度的超聲波清洗線。
電鍍行業(yè)用水：清洗工件用水，槽液用水。
其它工藝用水：汽車、家電涂裝、鍍膜玻璃、化裝品、精細(xì)化學(xué)品等。
20T/H反滲透超純水設(shè)備、新型電子廠超純水設(shè)備是采用專用RO反滲透技術(shù)設(shè)計(jì)，關(guān)鍵控制部件、高壓泵、膜組件采用進(jìn)口產(chǎn)品，工藝*，質(zhì)量可靠，結(jié)構(gòu)合理占地小，水利用率高，能耗低，全自動(dòng)化方式運(yùn)行，操作維護(hù)簡(jiǎn)單。
