拋光混床超純水設(shè)備又可稱之為電子級(jí)高純水設(shè)備或者深度脫鹽水設(shè)備。具體組成是自來(lái)水由原水儲(chǔ)水箱通過(guò)原水增壓泵送入砂過(guò)濾器，砂過(guò)濾器出水再進(jìn)入活性炭過(guò)濾器，再進(jìn)入精密過(guò)濾器，精密過(guò)濾器出水滿足進(jìn)二級(jí)RO主機(jī)要求，進(jìn)入二級(jí)反滲透系統(tǒng)，二級(jí)反滲透設(shè)備出來(lái)的脫鹽純水再進(jìn)入EDI系統(tǒng)，EDI出來(lái)再進(jìn)入電子級(jí)拋光混床系統(tǒng)，出來(lái)即是超純水。

　　拋光混床超純水設(shè)備工藝流程如下

　　自來(lái)水→原水箱→原水泵→砂過(guò)濾器→碳過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→一級(jí)高壓泵→一級(jí)RO組件→中間水箱→二級(jí)高壓泵→二級(jí)RO組件→純水箱→EDI送水泵→濃水回流原水箱→EDI裝置→純水箱→純水輸送泵→拋光混床→用水點(diǎn)

　　拋光混床超純水設(shè)備由下列三大部分組成

　　采用美國(guó)通用公司GE膜堆各種進(jìn)口儀表組裝而成，進(jìn)一步對(duì)RO純水(電導(dǎo)率小于3μs/cm)進(jìn)行脫鹽處理。它具有技術(shù)*、操作簡(jiǎn)便和良好的環(huán)保特性，無(wú)需酸堿而能連續(xù)制取高品質(zhì)純水，出水電阻率穩(wěn)定在15MΩ.cm以上。

　　DI裝置由3臺(tái)EDI膜堆和1臺(tái)高頻開(kāi)關(guān)電源構(gòu)成，設(shè)有缺水保護(hù)。整機(jī)有漏電保護(hù)，安全可靠。

　　EDI系統(tǒng)配置一套化學(xué)清洗系統(tǒng)。主要用途是在EDI膜堆被污染時(shí)，用來(lái)對(duì)EDI系統(tǒng)進(jìn)行化學(xué)清洗，化學(xué)清洗裝置與RO清洗裝置共用。

　　拋光混床超純水設(shè)備、電子行業(yè)超純水設(shè)備以滿足需要用水水質(zhì)及水量的要求，包括：砂過(guò)濾系統(tǒng)、碳過(guò)濾系統(tǒng)、反滲透(RO)脫鹽系統(tǒng)、EDI電再生除鹽系統(tǒng)、計(jì)量加藥系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)和其它輔助系統(tǒng)設(shè)備。系統(tǒng)包括設(shè)備、閥門(mén)、管道、附件及各單元控制設(shè)備、儀表及附件等。整個(gè)水處理系統(tǒng)的各設(shè)備間采用聯(lián)鎖保護(hù)，有利于純水設(shè)備的安全運(yùn)行。