(一)、半導體行業(yè)用反滲透設備的工藝介紹

　　反滲透設備因為一些產品使用的材料強度不夠及其耐侵蝕性差，造成橫軸斷裂等設備故障，并且膜的種類不同對進水水質要求也有所不同。膜兩側有一個壓力差，如水處理設備中應用泛的格柵除污機，因為一些產品使用的材料強度不夠及其耐侵蝕性差，反滲透設備造成橫軸斷裂等設備故障，還不包括因為維修影響運行造成的損失，嚴重影響了環(huán)境保護投資效益，還會使反滲透膜表面極易結垢，采用反滲透膜殼可以有效的保護膜元件。

　　(二)、半導體行業(yè)用反滲透設備的安裝條件

　　1、裝置運到現場后，應放置于室內，周圍環(huán)境溫度不得低于5℃，不得高于38℃。當溫度高于35℃時，應加強通風措施。

　　2、裝置到達后，應在一個月內安裝完畢，并應立即進行通水試車運行。

　　3、裝置在未進行通水試車之前，任何閥門均不得開啟，以免保護溶液流出，致使元件損壞。

　　4、裝置就位后，應調整裝置支承點，使組件處于基本水平的位置，且與基礎接觸可靠。

　　5、裝置與供水泵相接的管路及閥門在連接之前應進行脫脂處理，供水泵過流部份也應進行脫脂處理。

　　6、裝置的產水輸出管輸出高度應小于8米。

　　(三)、半導體行業(yè)用反滲透設備的系統(tǒng)組成

　　1、預處理：一般包括原水泵、加藥裝置、石英砂過濾器、活性炭過濾器、精密過濾器等。其主要作用是降低原水的污染指數和余氯等其他雜質，達到反滲透的進水要求。預處理系統(tǒng)的設備配置應該根據原水的具體情況而定。

　　2、反滲透：主要包括多級高壓泵、反滲透膜元件、膜殼(壓力容器)、支架等組成。其主要作用是去除水中的雜質，使出水滿足使用要求。

　　3、后處理：是在反滲透不能滿足出水要求的情況下增加的配置。主要包括陰床、陽床、混床、殺菌、超濾、EDI等其中的一種或者多種設備。后處理系統(tǒng)能把反滲透的出水水質更好的提高，使之滿足使用要求。

　　4、清洗：主要有清洗水箱、清洗水泵、精密過濾器組成。當反滲透系統(tǒng)受到污染出水指標不能滿足要求時，需要對反滲透進行清洗使之恢復功效。

　　5、電氣控制：是用來控制整個反滲透系統(tǒng)正常運行的。包括儀表盤、控制盤、各種電器保護、電氣控制柜等。

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