混床去離子水設(shè)備20T/H概述

　　混床去離子水設(shè)備20T/H主要采用離子交換樹脂進(jìn)行處理的工藝，可以達(dá)到對(duì)溶液的分離、提取、純化和濃縮的目的。下面介紹下混床去離子水設(shè)備20T/H的工藝、特點(diǎn)以及應(yīng)用的相關(guān)內(nèi)容。

去離子水設(shè)備

　　混床去離子水設(shè)備20T/H制取工藝及特點(diǎn)

　　1、反滲透設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合制取去離子水(高純水)的方式，工藝流程為：

　　原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→保安過(guò)濾器→反滲透設(shè)備→純水箱→混床(混合陰陽(yáng)離子床)→超純水箱→純水泵→變頻裝置→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)

　　特點(diǎn)：自動(dòng)化程度高，無(wú)需專人看管，系統(tǒng)產(chǎn)水穩(wěn)定，設(shè)備使用壽命長(zhǎng)，對(duì)環(huán)境污染較小，初期投入價(jià)格適中，目前在工業(yè)產(chǎn)品清洗等應(yīng)用較廣泛。

　　2、利用離子交換樹脂制取去離子水的是傳統(tǒng)水處理方式，工藝流程為：

　　原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟化器→精密過(guò)濾器→陽(yáng)床→陰床→混床→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)

　　特點(diǎn)：需要經(jīng)常再生，耗費(fèi)酸堿量大，工作量大，對(duì)環(huán)境污染比較大，自動(dòng)化程度低，初期投入相對(duì)較低，但后期使用成本較高。

　　3、反滲透設(shè)備與EDI(連續(xù)電除鹽)設(shè)備進(jìn)行搭配制取去離子水(超純水)的的工藝。這是目前制取超純水的新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚒９に嚵鞒虨椋?/p>

　　原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→保安過(guò)濾器→一級(jí)反滲透設(shè)備→純水箱→二級(jí)反滲透設(shè)備→二級(jí)純水箱→EDI設(shè)備→超純水箱→純水泵→拋光混床→終端膜濾器→用水點(diǎn)

　　特點(diǎn)：環(huán)保節(jié)能，自動(dòng)化程度高，無(wú)需專人看管，系統(tǒng)運(yùn)行穩(wěn)定，設(shè)備維護(hù)簡(jiǎn)單，使用壽命長(zhǎng)，初期投入價(jià)格相對(duì)比較貴。

混床去離子水設(shè)備

　　混床去離子水設(shè)備20T/H的應(yīng)用

　　1、太陽(yáng)能光伏行業(yè)：?jiǎn)?多晶硅、硅片切割、鋰電池、硅材料等工藝清洗。

　　2、光學(xué)光電行業(yè)：玻璃鍍膜、鏡片、鏡頭、半導(dǎo)體晶片、集成電路、液晶顯示器、導(dǎo)電玻璃、光通信等工藝清洗。

　　3、精密電子工業(yè)：線路板、電腦元件、電容器、電子元器件等工藝清洗。

　　4、一般工業(yè)：電鍍、表面涂裝、紡織印染、精細(xì)化工、配液、化學(xué)藥劑、化妝品等。

混床去離子水設(shè)備20T/H

　　萊特萊德上海水處理公司專注于水處理技術(shù)十余年，在水處理方面積累了豐富的水處理經(jīng)驗(yàn)，萊特萊德上海水處理公司生產(chǎn)的混床去離子水設(shè)備20T/H、反滲透去離子水設(shè)備10T/H等，種類繁多，滿足了廣大用戶的不同需求。