| 功能特點(diǎn) |
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- 配置兩個(gè)靶槍，一個(gè)為配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，一個(gè)為配套直流電源用于導(dǎo)電類材料的濺射鍍膜。
- 可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。
- 體積小，操作簡(jiǎn)便。
| 技術(shù)參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 | ||
| 水 | 設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)（加注純凈水或者去離子水） | ||
| 電 | AC220V 50Hz，必須有良好接地 | ||
| 氣 | 設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶Ø6mm雙卡套接頭）及減壓閥 | ||
| 工作臺(tái) | 尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 | ||
| 通風(fēng)裝置 | 需要 | ||
| 電源電壓 | 220V 50Hz | ||
| 大功率 | <560W（不含真空泵） | ||
| 極限真空度 | < ?E-6mbar（配合本公司設(shè)備使用可達(dá)到?E-5mbar） | ||
| 工作溫度 | RT-500℃，精度±1℃（可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度） | ||
| 靶槍數(shù)量 | 2個(gè)（可選配其他數(shù)量） | ||
| 靶槍冷卻方式 | 水冷 | ||
| 靶材尺寸 | Ø2″，厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） | ||
| 直流濺射功率 | 500W（可選） | ||
| 射頻濺射功率 | 300W/500W（可選） | ||
| 載樣臺(tái) | Ø140mm | ||
| 載樣臺(tái)轉(zhuǎn)速 | 1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào) | ||
| 保護(hù)氣體 | Ar、N2等惰性氣體 | ||
| 進(jìn)氣氣路 | 質(zhì)量流量計(jì)控制2路進(jìn)氣，每個(gè)流量為100SCCM | ||
| 主機(jī)尺寸 | 500mm×560mm×660mm | ||
| 整機(jī)尺寸 | 1300mm×660mm×1200mm | ||
| 重量 | 160kg | ||
| 可選配件 | 金、銦、銀、白金等各種靶材 | ||
| 標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1 | 直流電源控制系統(tǒng) | 1套 |
| 2 | 射頻電源控制系統(tǒng) | 1套 | |
| 3 | 膜厚監(jiān)測(cè)儀系統(tǒng) | 1套 | |
| 4 | 分子泵（德國(guó)進(jìn)口） | 1臺(tái) | |
| 5 | 冷水機(jī) | 1臺(tái) | |
| 6 | 冷卻水管（Ø6mm） | 4根 | |
| 7 | 靶材（不銹鋼靶、陶瓷靶） | 各1件 | |
