提高炭黑分散性的方法，提高炭黑分散性設(shè)備，IKN炭黑研磨分散機(jī)，管線式研磨分散機(jī)，增強(qiáng)炭黑應(yīng)用功能設(shè)備，德國研磨分散機(jī)，循環(huán)式研磨分散機(jī)，中試型研磨分散機(jī)，新材料研磨分散機(jī)

IKN研磨分散機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)自動控制，且操作簡單方便，機(jī)器運(yùn)行很穩(wěn)定。機(jī)器的拆洗很方便，不存在任何死角，可以做到全面的清洗。

炭黑作為一種典型的納米材料，原生粒子尺寸小(通常<100nm)、表面能高，極易聚集成較大的顆粒，很難穩(wěn)定分散于不同體系中，限制了炭黑性能的充分發(fā)揮，影響到下游制品的質(zhì)量和性能，成為炭黑應(yīng)用的一大瓶頸。炭黑的分散主要受制于三個(gè)因素：炭黑本身的特性、載體或分散介質(zhì)的類型、分散工藝和分散設(shè)備。

一種提高炭黑分散性的方法，其特征在于包括以下步驟：(1)在炭黑中加入結(jié)構(gòu)控制劑；(2)將炭黑和結(jié)構(gòu)控制劑均勻混合；(3)將混合料進(jìn)行微納米分散；(4)通過分級裝置控制分散細(xì)度級別；(5)收集分級出來的炭黑即得高分散性炭黑。

炭黑的分散好不好重要的還是取決于分散劑和分散設(shè)備，大家都知道，炭黑額原生粒徑都是＜100nm，則遇到液體之后就會形成團(tuán)聚力，要想很好的將團(tuán)聚力打開必須使用超高轉(zhuǎn)速及剪切力的設(shè)備，依肯機(jī)械研磨分散機(jī)即可實(shí)現(xiàn)這一步，炭黑結(jié)構(gòu)控制劑為納米碳基材料。通過引入異質(zhì)材料，一方面控制炭黑的結(jié)構(gòu)(領(lǐng)苯二甲酸二丁酯吸收值)，改變炭黑的粒徑分布，另一方面降低炭黑與炭黑粒子之間的接觸面積，打破單一炭黑微粒之間的附聚平衡，降低炭黑顆粒之間的團(tuán)聚力，提高炭黑的分散性能。

上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤?？筛鶕?jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm，是目前國產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn)：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間（可以看作同等電機(jī)，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

線速度的計(jì)算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)  
              g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是重要的

CMSD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%