復方*油混懸液制劑膠體磨，*油混懸液研磨分散機，*微分團聚分散機，高產(chǎn)能膠體磨，14000rpm膠體磨，德國進口膠體磨，長時間運行膠體磨，管線式膠體磨
IKN研磨分散機設(shè)計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。
隨著抗生素*大劑量的廣泛使用，細菌耐藥性、藥物殘留等問題被普遍關(guān)注，并且多年來動物疾病愈發(fā)復雜，混合感染情況多，抗生素的合理的聯(lián)合應用顯得愈發(fā)重要。復方制劑是由兩種或兩種以上藥物組成，如果配伍得當，可降低藥物毒性、改善活性、擴大抗菌譜、減少用量，減少和延緩耐藥菌株的產(chǎn)生等，對于單藥無法治療的混合感染也有很好的療效。
解決*容易降解、半衰期短、抗菌譜窄等諸多不足之處。本發(fā)明的新組方和制備工藝具有藥物不降解，半衰期長，*緩釋，抗菌譜廣，協(xié)同增效等諸多優(yōu)點。適用于部分耐藥菌株感染、混合感染疾病的需要。先將*初步混懸液加入膠體磨，調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速，膠體磨研磨粒徑5-10um,將過膠體磨研磨好的溶液投入配液灌，加入剩余膠體液，定容，攪拌。過高壓均質(zhì)機混勻。便得到*混懸液。
上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。IKN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm，是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。
從設(shè)備角度來分析，影響分散效果因素有以下幾點：
1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）
2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）
5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）
線速度的計算：
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個重要因素，研磨分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的
CMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到允許量的10%
復方*油混懸液制劑膠體磨，*油混懸液研磨分散機，*微分團聚分散機，高產(chǎn)能膠體磨，14000rpm膠體磨，德國進口膠體磨，長時間運行膠體磨，管線式膠體磨
