蒙脫石分體式納米膠體磨
蒙脫石分散機,高粘土膠體磨,超高速膠體磨,凹凸棒土分散機
蒙脫石是**的一種由人藥演變?yōu)楂F藥的品種,對動物止瀉的效果也**,并且安全綠色。蒙脫石源于大自然,又回歸大自然,對大自然沒有破壞,是對環(huán)境友善的物質(zhì)。蒙脫石是天然的層狀硅酸鹽納米材料,每層厚度僅1 nm,顆粒細小,比表面積大。
材料達到納米尺度以后會表現(xiàn)出納米尺寸效應(yīng)., 以零維的微觀顆粒來講, 當顆粒尺寸達到納米尺度以后, 其團聚效應(yīng)顯著增加, 團聚體內(nèi)顆粒的相互吸引力也顯著增大, 分散難度變大。傳統(tǒng)的分散機對納米級蒙脫石進行分散時,很難真正均勻?qū)⒚擅撌稚㈤_來。新的工藝方式是應(yīng)用蒙脫石分散機,高剪切分散機GM2000系列進行研磨分散。
超高轉(zhuǎn)速和*剪切率對于獲得超細微懸浮液是*重要的。根據(jù)一些行業(yè)的特殊要求,上海思峻在XM2000的基礎(chǔ)上又開發(fā)出GM2000系列。其剪切速率可以超過18000rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達到51m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。蒙脫石分散機剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。
GM2000系列產(chǎn)品與傳統(tǒng)的設(shè)備對比傳統(tǒng)設(shè)備需要8小時的分散過程,GM2000設(shè)備1小時就可以完成,更加高效、節(jié)能。
傳統(tǒng)設(shè)備的攪拌轉(zhuǎn)速每分鐘幾十轉(zhuǎn),帶有分散功能的每分鐘轉(zhuǎn)速也在1500轉(zhuǎn)之內(nèi),而GM2000系列每分鐘轉(zhuǎn)速可達到10000-18000轉(zhuǎn),更加快速。超高的線速度產(chǎn)生的剪切力,使物料瞬間細化分散,從而獲得更高品質(zhì)的產(chǎn)品。
GM2000系列與同類設(shè)備的對比
發(fā)熱問題。同類設(shè)備在加工過程中,高粘物料進入腔體后,因背壓力大而輸送效果差,導致物料在設(shè)備腔體中停留時間過長而導致嚴重發(fā)熱。GM2000系列設(shè)備在確保效果的基礎(chǔ)上,減小了背壓阻力,提高了輸送能力,減少了停留時間,降低了物料發(fā)熱的狀況。
多層多向剪切分散。同類設(shè)備定、轉(zhuǎn)子等部件結(jié)構(gòu)單一,多級多層的結(jié)構(gòu)只是單純的重復(fù)性加工,相同的齒槽結(jié)構(gòu)易發(fā)生物料未經(jīng)分散便通過工作腔的短路現(xiàn)象。GM000系列定、轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)采用多層多向剪切的概念,裝配式結(jié)構(gòu)使物料得到不同方向的剪切分散,杜絕短路現(xiàn)象,超細分散更加*。
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研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考:
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
GM2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
GM2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
GM2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
GM2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
GM2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
GM2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
蒙脫石分體式納米膠體磨