石墨烯有機(jī)硅潤(rùn)滑脂及其制備方法，石墨烯剝離分散設(shè)備,石墨烯硅油高速研磨分散機(jī),石墨烯有機(jī)硅潤(rùn)滑脂高速研磨分散機(jī),石墨烯研磨分散機(jī),石墨烯研磨分散設(shè)備是利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達(dá)到顆粒*被分離（separating）、潤(rùn)濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。
石墨烯有機(jī)硅潤(rùn)滑脂及其制備方法，由如下質(zhì)量百分比的組分組成：石墨烯片0.01~15%、有機(jī)硅油60~90%，納米二氧化硅0.01~15%，*0.01~1%和性能添加劑0.01~10%。將石墨烯片加入硅油中然后進(jìn)行研磨分散得到均勻的石墨烯硅油混合溶液，再在溶液中加入納米二氧化硅和性能添加劑并通過機(jī)械攪拌器將其攪拌成均勻的混合物，然后將混合物進(jìn)行三次過三輥機(jī)處理，zhi后將經(jīng)過三輥機(jī)處理的混合物轉(zhuǎn)移到抽真空除氣裝置中除去混合物中的空氣得到石墨烯有機(jī)硅潤(rùn)滑脂。
石墨烯分散的石墨烯分散需要解決六大基本問題
Ø 石墨烯分散的挑戰(zhàn)性首先源于對(duì)石墨烯深度分散的必然要求，將石墨烯分散到單片或初級(jí)粒子狀態(tài)；
Ø 源于石墨烯對(duì)通過化學(xué)改性實(shí)現(xiàn)分散這一手段的低容忍性甚至抵觸性；化學(xué)改性，勢(shì)必干擾或一定程度上破壞π-π的完整性，從而降低或失去本征態(tài)石墨烯的優(yōu)異性能；
Ø 源于石墨烯本身既不親水又不親油的結(jié)構(gòu)特征；一般的分散劑分子又較難與石墨烯形成較強(qiáng)的物理吸附作用，所以使用表面活性分散石墨烯的物理手段也將受限；
Ø 源于石墨烯的π-π結(jié)構(gòu)和強(qiáng)的范德華力，使石墨烯極易團(tuán)聚，而且團(tuán)聚體難以再分開；
Ø 還源于石墨烯*的長(zhǎng)徑比和比表面積；
Ø 石墨烯的分散還面臨著實(shí)際生產(chǎn)操作性方面的難題。例如，4%濃度的水型石墨烯漿料已是膏態(tài)，不具有流動(dòng)性，這為生產(chǎn)過程中物料傳輸、分散和化學(xué)反應(yīng)造成了困難。
石墨烯硅油高速研磨分散機(jī),石墨烯有機(jī)硅潤(rùn)滑脂高速研磨分散機(jī),石墨烯研磨分散機(jī),石墨烯研磨分散設(shè)備
石墨烯有機(jī)硅潤(rùn)滑脂及其制備方法，石墨烯剝離分散設(shè)備,石墨烯硅油高速研磨分散機(jī),石墨烯有機(jī)硅潤(rùn)滑脂高速研磨分散機(jī),石墨烯研磨分散機(jī),石墨烯研磨分散設(shè)備是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zhi終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設(shè)備等級(jí)：化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無菌級(jí)
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
CMD 2000/4 | 700 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 3000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 8000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD 2000/20 | 20000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 40000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 80000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zhi大允許量的10%。 | |||||
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和zhi終產(chǎn)品的要求。
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