混懸劑穩(wěn)定性影響因素，粉體顆粒超細研磨機，混懸液超細膠體磨，納米級材料分散機，高速高剪切粉碎機，混懸液研磨分散設(shè)備主要是針對不同粘度漿狀的液體原料進行粉碎、分散、乳化和混合，通過分散盤上下鋸齒的高速運動的新型高效攪拌設(shè)備，對物料進行高速的強烈剪切、撞擊、粉碎、分散，達到迅速融合、溶解、細化、分散的功能。
混懸劑穩(wěn)定性影響因素：
1.粒子沉降----通過stokes沉降方程可知,粒子半徑越大,介質(zhì)粘度越低,沉降速度越快.為保持穩(wěn)定,應(yīng)減小微粒半徑,或增加介質(zhì)粘度（助懸劑）。
2.荷電與水化膜----- 雙電層與水化膜能保持粒子間斥力,有助于穩(wěn)定.如雙電層zeta電位降低，或水化膜破壞,則粒子發(fā)生聚沉.電解質(zhì)容易破壞zeta電位和水化膜。
3.絮凝與反絮凝---- 適當(dāng)降低zeta電位,粒子發(fā)生松散聚集,有利于混懸劑穩(wěn)定.能形成絮凝的物質(zhì)為絮凝劑。
4.結(jié)晶----- 放置過程中微粒結(jié)晶,結(jié)晶成長,形成聚沉。
5.分散相溫度----- 溫度降低使布朗運動減弱,降低穩(wěn)定性.故應(yīng)保持合適的溫度。
制備混懸液時，應(yīng)使混懸微粒有適當(dāng)?shù)姆稚⒍?，粒度均勻，以減小微粒的沉降速度，使混懸液處于穩(wěn)定狀態(tài)。傳統(tǒng)的混懸液生產(chǎn)都是采用普通膠體磨，轉(zhuǎn)速只有3000rpm，生產(chǎn)出來的懸浮液顆粒較粗，靜置一段時間容易產(chǎn)生絮凝，影響藥效和使用，為此有醫(yī)藥廠家在考察了國nei的設(shè)備之后，放棄了具有ji度價格優(yōu)勢的國nei設(shè)備，來詢問低能耗、高轉(zhuǎn)速、經(jīng)密定轉(zhuǎn)子、研磨細的上海IKN高速膠體磨。該設(shè)備轉(zhuǎn)速達到14000RPM，這可以通過變頻調(diào)速通過皮帶加速來實現(xiàn)。(轉(zhuǎn)速是普通分散設(shè)備3-4倍，研磨的力度也是普通膠體磨的3-4倍，這樣研磨的細度更小，效果更好)。
除此之外，設(shè)備更有人性化設(shè)置：
1、研磨間隙可調(diào)，研磨細度可控；
2、設(shè)備可靈活改裝成6種設(shè)備（分散機、乳化機、膠體磨、研磨分散機、錐體磨、濕磨機）；
3、夾套設(shè)計，溫度可控（可降溫，可加熱 其中的介質(zhì)可以是水、冷卻液、導(dǎo)熱油或混合物料中的液相介質(zhì)）；
4、模塊化分體結(jié)構(gòu)，操作維護方便，占地面積小。
上海依肯機械設(shè)備主要研發(fā)，生產(chǎn)制造，銷售流體領(lǐng)域的幾大系列：一高剪切分散乳化機，二 均質(zhì)機，三 粉液分散機，四 膠體磨，五 攪拌機等系列。為混合、分散、均質(zhì)、懸浮、乳化、濕磨、粉液混合等領(lǐng)域提供高品質(zhì)的解決方案，設(shè)備加工材料細度可達微納米級別。依肯公司作為國nei的zhu名供應(yīng)商，憑借著對廣大客戶要求的深入了解，為客戶解決流程工藝中的難題，混合技術(shù)，乳化均質(zhì)，粉液混合技術(shù)和合理的配置方案，確bao設(shè)備運行穩(wěn)定的可靠性。
設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、氣動馬達
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
均質(zhì)機材質(zhì)：SUS316L 、SUS316L 、SUS316Ti
均質(zhì)機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
均質(zhì)機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
均質(zhì)機選配容器：本設(shè)備適合于ge種不同大小的容器.
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