調(diào)Q技術(shù)就是通過某種方法使腔的Q值隨時間按一定程序變化的技術(shù)。在泵浦開始時使腔處在低Q值狀態(tài)，即提高振蕩閾值，使振蕩不能生成，上能級的反轉(zhuǎn)粒子數(shù)就可以大量積累，當(dāng)積累到zui大值（飽和值）時，突然使腔的損耗減小，Q值突增，激光振蕩迅速建立起來，在極短的時間內(nèi)上能級的反轉(zhuǎn)粒子數(shù)被消耗，轉(zhuǎn)變?yōu)榍粌?nèi)的光能量，在腔的輸出端以單一脈沖形式將能量釋放出來，于是就獲得峰值功率很高的巨脈沖激光輸出。

    聲光Q開關(guān)是利用聲光相互作用以控制光腔損耗的Q開關(guān)技術(shù)。聲光調(diào)Q是通過電聲轉(zhuǎn)換形成超聲波使調(diào)制介質(zhì)折射率發(fā)生周期性變化, 對入射光起衍射作用, 使之發(fā)生衍射損耗,Q 值下降, 激光振蕩不能形成。在光泵激勵下其上能級反轉(zhuǎn)粒子數(shù)不斷積累并達(dá)到飽和值, 之后突然撤除超聲場, 衍射效應(yīng)立即消失, 腔內(nèi)Q 值猛增, 激光振蕩迅速恢復(fù), 其能量以巨脈沖形式輸出。這是一種廣泛應(yīng)用的Q開關(guān)方式，其主要優(yōu)點(diǎn)是重復(fù)頻率高，性能穩(wěn)定可靠。

典型的聲光Q開關(guān)主要由三部分組成：電聲轉(zhuǎn)換器、聲光介質(zhì)和吸聲材料。電聲換能器與聲光介質(zhì)如熔石英、鉬酸鉛（PbMO4）晶體等構(gòu)成聲光器件。電聲換能器加電后，將超聲波饋入聲光材料，聲波是疏密波，聲光材料的折射率發(fā)生周期變化，對相對聲波方向以某一角度傳播的光波來說，相當(dāng)于一個相位光柵。于是，在超聲場中光波發(fā)生衍射，改變傳播方向，這就是聲光衍射效應(yīng)。

主要技術(shù)參數(shù)

工作介質(zhì)：熔融硅 Fused Silica

激光波長：1064nm

增反鍍膜：多層介質(zhì)硬膜

透過率：>99.8% （典型>99.9%）

膜層損壞閾值：> 1GW cm-2

插入損失： <= 10% （典型< 5%）

VSWR: <= 1.2:1

zui大驅(qū)動電功率：100W

過熱保護(hù)點(diǎn)：+50 度

水冷要求

水流速：>190cc / min

水溫：

- 建議工作水溫：<32 度但不能結(jié)露

- zui高水溫：40 度