一、產(chǎn)品名稱概述:*研磨分散機,*注射液分散機,*軟膏分散機,*超高速分散機
二、*的簡介
*是一種用來***各種皮膚病或減輕口瘍帶來不適的合成皮質類固醇。它是更有效的去炎松,大約是強的松的八倍 。*為*A的醋酸酯衍生物。是中效糖皮質激素。作用與*相似,具有***、抗瘙癢和收縮血管等作用,水鈉潴留作用微弱,其中***作用較強而持久。
三、*的細化
*注射液、軟膏等產(chǎn)品,想要獲得好的藥效,需要對*粉體進行充分的細化,保證藥效的充分發(fā)揮。一般*粉體原始粒徑為100μm左右,加入液體介質后,采用XMD2000系列高速剪切研磨分散機,處理后,粒徑D90〈2μm,并且體系分散均勻,效果高。XMD2000系列超高速研磨分散機轉速可達18000rpm,線速度50m/s,定轉子精密度高,間隙小。
四、SID*分散機特點
1、太倉希德研磨式分散機,“膠體磨+分散機”的*結構,一級研磨模塊可以將團聚體研磨打開,第二級分散模塊再瞬間對物料進行充分的分散,一步到位,效果好,效率高。
2、*粉體分散細化,所以需要強大的作用對其進行分散,傳統(tǒng)分散設備轉速一般不足3000rpm,難以分散。而SGN研磨分散機轉速高達18000rpm,剪切速率高,可以充分研磨細化。
3、SID研磨分散機采用管線式分體式結構,物料從進口進入設備工作腔中,進行處理,然后再從出口打出,物料***得的剪切細化分散,產(chǎn)品更均勻穩(wěn)定。另外可以實現(xiàn)在線式生產(chǎn),滿足大工業(yè)化生要求。
五、研磨分散機用于制藥行業(yè)的優(yōu)勢
1、污染是制藥過程很大的風險因素,對于設備良好的清潔可以有效的防止污染的發(fā)生。XMD2000從設計上注重衛(wèi)生要求,采用*設計,便于清洗,對表面進行高質量處理,防止其對制藥產(chǎn)生不利影響,該設備還符合CIP和SIP的清潔標準,能更好的實現(xiàn)在線清洗,提高工作效率,確保產(chǎn)品安全。
2、設備更便于生產(chǎn)員工進行操作,物料投入投料口后自動從出料口排出,如果存在穩(wěn)定的工藝路線,可以直接通過管線與上一工序相連接,則該設備可以實現(xiàn)無人操作,在生產(chǎn)過程中適用性。
3、設計符合制藥工業(yè)要求,同時滿足不同產(chǎn)品對于粒徑的要求,在制藥的分散混合工藝中應用前景很大。
六、*超高速分散機選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
XMD2000/4 | 300 | 18000 | 50 | 4 | DN25/DN15 |
XMD2000/5 | 1000 | 13000 | 50 | 11 | DN40/DN32 |
XMD2000/10 | 2000 | 9000 | 50 | 22 | DN80/DN65 |
XMD2000/20 | 5000 | 2850 | 50 | 37 | DN80/DN65 |
XMD2000/30 | 8000 | 1420 | 50 | 55 | DN150/DN125 |
*研磨分散機,*注射液分散機,*軟膏分散機,*超高速分散機