標(biāo)配雙級反滲透設(shè)備是以壓力差為推動力的一種高新膜分離技術(shù)，具有一次分離度高、無相變、簡單高效的特點。反滲透膜“孔徑”已小至納米（1nm=10-9m），在掃描電鏡下無法看到表面任何“過濾”小孔。在高于原水滲透壓的操作壓力下，水分子可反滲透通過RO半透膜，產(chǎn)出純水，而原水中的大量無機離子、有機物、膠體、微生物、熱原等被RO膜截留。
標(biāo)配雙級反滲透設(shè)備反滲透是精密的膜法液體分離技術(shù)，在進水(濃溶液)側(cè)施加操作壓力以克服自然滲透壓，當(dāng)高于自然滲透壓的操作壓力加于濃溶液側(cè)時水分子自然滲透的流動方向就會逆轉(zhuǎn)，進水(濃溶液)中的水分子部份通過反滲透膜成為稀溶液側(cè)的凈化產(chǎn)水;設(shè)備能阻擋所有溶解性鹽及分子量大于100的有機物，但允許水分子透過，反滲透復(fù)合膜脫鹽率一般大于98%.
反滲透純凈水設(shè)備都是采用了這種技術(shù)，采用了自動供水和斷水的智能化控制，這就是純凈水設(shè)備。
反滲透技術(shù)因具有特殊的*性而得到日益廣泛的應(yīng)用。反滲透凈水設(shè)備的清洗問題可能使許多技術(shù)力量不強的用戶遭受損失，所以要做好反滲透設(shè)備的管理，就可以避免出現(xiàn)嚴(yán)重的問題。
定期對反滲透設(shè)備進行大流量、低壓力、低pH值的沖洗有利于剝除附著在膜表面上的污垢，維持膜性能，或當(dāng)反滲透設(shè)備進水SDI突然升高超過5.5以上時，應(yīng)進行低壓沖洗，待SDI值調(diào)至合格后再開機。
由于生產(chǎn)的波動，反滲透設(shè)備不可避免地要經(jīng)常停運，短期或*停用時必須采取保護措施，不適當(dāng)?shù)靥幚頃?dǎo)致膜性能下降且不可恢復(fù)。
短期保存適用于停運15d以下的系統(tǒng)，可采用每1～3d低壓沖洗的方法來保護反滲透設(shè)備。實踐發(fā)現(xiàn)，水溫20℃以上時，反滲透設(shè)備中的水存放3d就會發(fā)臭變質(zhì)，有大量細(xì)菌繁殖。因此，建議水溫高于20℃時，每2d或1d低壓沖洗一次，水溫低于20℃時，可以每3d低壓沖洗一次，每次沖洗完后需關(guān)閉凈水設(shè)備反滲透裝置上所有進出口閥門。
