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粘彈性活性水壓裂液研磨分散機

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱上海依肯機械設備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號CMD2000
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時間2019/6/11 11:25:13
  • 訪問次數(shù)767
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食品機械設備網(wǎng)采購部電話:13777369734

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上海依肯機械設備有限公司是一家中德合作經(jīng)營企業(yè),依肯通過引進*和科學管理模式,形成了完整的研發(fā)、制造及營銷體系。她保持與的混合乳化技術同步,同時擁有XX的技術研究人才和生產(chǎn)能力,為中國及提供多元化的產(chǎn)品及技術服務。她已經(jīng)發(fā)展成為中國流體高剪切混合設備行業(yè)的lin先者。

公司主要研發(fā),生產(chǎn)制造,銷售流體領域的幾大系列:一高剪切分散乳化機,二 均質(zhì)機,三 粉液混合設備,四 膠體磨,五 攪拌機,六干燥機等系列。為混合、分散、均質(zhì)、懸浮、乳化、濕磨、粉液混合等領域提供高品質(zhì)的解決方案,設備加工材料細度可達微納米級別。依肯公司作為國內(nèi)的供應商,憑借著對廣大客戶要求的深入了解,為客戶解決流程工藝中的難題,混合技術,乳化均質(zhì),粉液混合技術和合理的配置方案,確保設備運行穩(wěn)定的可靠性。她已廣泛應用于石油、石化、化工、食品、生物制藥、核工業(yè)、精細化工等領域,并成功為國家重點工程配套,部分產(chǎn)品返銷國外,取得了顯著的經(jīng)濟效益和社會效益。





乳化機,分散機,乳化機,混合機,膠體磨
出料口直徑 0-10寸 電機功率 4-110KW
粉碎細度 0-10μm 進料口直徑 0-10寸
乳化細度 0-10μm 生產(chǎn)能力 300-40000kg/h
外形尺寸 350*450*750mm 應用領域 其它
重量 45kg
粘彈性活性水壓裂液研磨分散機IKN 夠?qū)崿F(xiàn)自動控制,且操作簡單方便,機器運行很穩(wěn)定。機器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到*的保健海帶粉超高速研磨機清洗。
粘彈性活性水壓裂液研磨分散機 產(chǎn)品信息

粘彈性活性水壓裂液研磨分散機,油田增產(chǎn)用酸凍膠壓裂液粉碎設備,高速剪切壓裂液膠體磨,德國管線式研磨粉碎設備,IKN高轉(zhuǎn)速高剪切粉碎設備粘彈性活性水壓裂液研磨分散機,油田增產(chǎn)用酸凍膠壓裂液粉碎設備,高速剪切壓裂液膠體磨,德國管線式研磨粉碎設備,IKN高轉(zhuǎn)速高剪切粉碎設備

 

依肯(IKN)膠體磨具有設計緊湊、實用新型,外形美觀、密封良好、性能穩(wěn)定、操作方便、裝修簡單、經(jīng)久耐用、適應范圍廣、生產(chǎn)效益高等特點、是處理精細物料理想的加工設備。

 

在油氣藏的勘探與開發(fā)過程中,常常會發(fā)現(xiàn)一些低滲透、水敏性儲層,如華北油田桐47斷塊,孔隙度11.920.0%,滲透率0.2384.41μm 2×10-3,為中孔、低滲、水敏性儲層。對此類儲層采用胍膠等聚合物壓裂液體系進行壓裂改造,不僅會在地層與支撐裂縫中留下部分殘渣,還會引起巖石中的粘土礦物膨脹、分散與遷移,對地層與支撐裂縫造成較大傷害。因此,為了提高對低滲、水敏性油層的壓裂效果,需要研制開發(fā)防水敏性好的低殘渣壓裂液體系。為此,研制優(yōu)選出了清潔(粘彈性活性水) 壓裂液。由于配方中的表面活性劑(二甲基十八烷基羥乙基季銨硝suan鹽)既是一種稠化劑,又是一種很好的粘土穩(wěn)定劑,與無機鹽粘土穩(wěn)定劑(lv化鉀)復配,效果更好,較好地解決了壓裂液的殘渣與儲層的水敏傷害。本發(fā)明壓裂液體系配制使用方便、無殘渣、防膨效果好、對儲層傷害小、耐溫抗剪切性能好等優(yōu)點,能滿足低滲、水敏儲層壓裂改造的需要。

 

 

上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

粘彈性活性水壓裂液研磨分散機,油田增產(chǎn)用酸凍膠壓裂液粉碎設備,高速剪切壓裂液膠體磨,德國管線式研磨粉碎設備,IKN高轉(zhuǎn)速高剪切粉碎設備

研磨分散機的特點:

1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨

 

2 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

5 高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 

 

從設備角度來分析,影響分散效果因素有以下幾點:

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結構(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設備的期限就不能再好了。)

 

線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素,研磨分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

 

CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

型號

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

工藝應用:

食品纖維類物料的濕法超細破碎與均質(zhì)      可溶物(或互溶物)固體和液體加速溶解

動物和植物組織的超細破碎及漿化加工      不相溶的固-液相懸浮物超細混合分散

不相溶的固-液相懸浮物超細混合分散       納米材料團聚物的強力解聚與超細分散

 

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