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思峻機械研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
石墨烯是一種由碳原子緊密堆積構成的二維晶體,是包括富勒烯、碳納米管、石墨在內的碳的同素異形體的基本組成單元。石墨烯的制備方法主要有機械剝離法,晶體外延法,化學氣相沉積法,插層剝離法以及采用氧化石墨烯的高溫脫氧和化學還原法等。與碳納米管類似,石墨烯很難作為單一原料生產某種產品,而主要是利用其突出特性與其它材料體系進行復合.從而獲得具有優(yōu)異性能的新型復合材料。而氧化石墨烯由于其特殊的性質和結構,使其成為制備石墨烯和石墨烯復合材料的理想前驅體。本文綜述了石墨烯復合材料的結構、分類及其在催化領域、電化學領域、生物醫(yī)藥領域和含能材料領域的應用。
由于石墨烯的特殊結構,采用砂磨機容易破壞片層結構。所以目前大多數(shù)廠家都在使用我司高剪切研磨分散機進行石墨烯漿料的處理,研磨分散機是將膠體磨(研磨機)和分散機合二為一的設備。工作原理為定轉子高速運轉產生強大的剪切力、離心力,對物料進行剪切、剝離、分散、細化。所以特別適合石墨烯漿料的生產,并且不容易破壞片層結構。
石墨烯的應用十分廣泛,如:石墨烯鋰電池漿料、石墨烯導電漿料、石墨烯涂料、石墨烯復合材料、石墨烯潤滑油等等。石墨烯漿料大的難點就是分散問題,石墨烯分散到NMP中,石墨烯分散到水中,石墨烯分散到潤滑油中,都要解決一個研磨分散剝離的問題。
石墨烯漿料的制備方法
(1)超聲波分散設備:非常適合實驗室規(guī)模、低粘度介質分散石墨烯,用于中、高粘度介質時會受到限制,而且處理量比較小,不適合規(guī)模生產
(2)砂磨機:能夠均勻的細化石墨烯的粒徑,但是工作時間長,而且容易破壞石墨烯的原子機構,耗材更換成本高,
(3)采用研磨分散機“先把抱團粒徑打開,還原物料的原始粒徑,再把物料進步細化剝離”可以高效的得到理想的石墨烯漿料
石墨烯研磨分散機是研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達到顆粒*被分離(separating)、潤濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩(wěn)定(stabilization)目的。
石墨烯薄膜是除石墨烯粉體外的另一種重要形態(tài)。從石墨烯薄膜性能上看,具備完整的較強導電性、透光性、柔性及微電子等屬性。目前ITO的替代材料有金屬網格、碳納米管、納米線等,而其中熱門的候選為石墨烯??梢詫⑹┍∧ぷ鳛楦袘獙踊蛘唑寗訉?,被使用在觸摸屏的模組里。
SGN石墨烯研磨設備采用德國*的高速研磨分散技術,通過超高轉速(高可達18000rpm)帶動超高精密的磨頭定轉子(通常配CM+8SF,定轉子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設備的高線速度下形成湍流,在定轉子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質,從而得出超細的顆粒(當然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點可以得出理想的導電石墨烯漿料。
上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將SGN/思峻膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤??筛鶕锪弦筮M行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) SGN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質等功能,設備轉速可達18000rpm,是目前國產設備轉速的4-5倍。
CMSD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
設備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇:380V/50Hz、220V/60Hz、440V/50Hz
電機選配件:PTC 熱保護、降噪型
均質機材質:SUS304、SUS316L、SUS316Ti
均質機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
均質機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式:法蘭、螺口、夾箍
乳化機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器
分散均質機高剪切分散均質機,實驗室均質機
應用于:奶油、化妝品、牙膏、果汁、洗滌劑、漿糊、鹽溶液、催化劑、涂漆、聚合物乳化液、農藥(除草劑、殺蟲劑)。
GMSD2000 研磨分散機參數(shù)表
SGN高剪切研磨分散機選型表:
| 標準流量(H2O) | 輸出轉速 | 標準線速度 | 馬達功率 | 進出口尺寸 |
|
型號 | l/h | rpm | m/s | kW |
| 型號 |
GMSD 2000/4 | 400 | 18000 | 51 | 4 | DN25/DN15 | GSMD 2000/4 |
GMSD 2000/5 | 1500 | 13500 | 51 | 7.5 | DN40 /DN 32 | GSMD 2000/5 |
GMSD 2000/10 | 4000 | 9257 | 51 | 22 | DN50 / DN50 | GSMD 2000/10 |
GMSD 2000/20 | 10000 | 3664 | 51 | 37 | DN80 /DN 65 | GSMD 2000/20 |
GMSD 2000/30 | 60000 | 1825 | 51 | 55 | DN150 /DN 125 | GSMD 2000/30 |
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