HI84100二氧化硫滴定分析儀技術(shù)參數(shù)：
| 型號(hào) | HI 84100 | ||||||||||||||||||
| 滴定范圍 | 0 to 400 ppm of SO2 | ||||||||||||||||||
| 滴定方法 | 等電位氧化還原滴定法 | ||||||||||||||||||
| 滴定精度 | 讀數(shù)的5% | ||||||||||||||||||
| 取樣量 | 50 mL | ||||||||||||||||||
| ORP電極 | HI 3148B | ||||||||||||||||||
| 供電方式 | 220V/60 Hz；10VA | ||||||||||||||||||
| 使用環(huán)境 | 0 to 50°C （32 to 122°F）；RH max 95% | ||||||||||||||||||
| 尺寸重量 | 208 × 214 × 163 mm；2200 g | ||||||||||||||||||
HI84100二氧化硫滴定分析儀產(chǎn)品特點(diǎn)：
1.基于微電腦控制技術(shù)，集滴定分析，磁力攪拌和電極測(cè)量于一體
2.性能優(yōu)良操作簡(jiǎn)單，可直接顯示測(cè)量結(jié)果
3.人性化設(shè)計(jì)，具有穩(wěn)定標(biāo)識(shí)和校準(zhǔn)信息等顯示功能
4.殘留二氧化硫濃度取決于三個(gè)因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度
5.通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用
6.當(dāng)殘留濃度超過(guò)2.0ppm時(shí)，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。
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