C640硅片厚度測(cè)定儀采用機(jī)械接觸式測(cè)量方式，嚴(yán)格符合標(biāo)準(zhǔn)要求，有效保證了測(cè)試的規(guī)范性和準(zhǔn)確性。專(zhuān)業(yè)適用于量程范圍內(nèi)的塑料薄膜、薄片、隔膜、紙張、箔片、硅片等各種材料的厚度精確測(cè)量
硅片厚度測(cè)定儀產(chǎn)品特點(diǎn)：
專(zhuān)業(yè)——Labthink在不斷的創(chuàng)新研發(fā)和技術(shù)積累中推陳出新，使用超高精度的位移傳感器、科學(xué)的結(jié)構(gòu)布局及專(zhuān)業(yè)的控制技術(shù)，實(shí)現(xiàn)*的測(cè)試穩(wěn)定性、重復(fù)性及精度。
高效——采用高效率、自動(dòng)化結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，有效簡(jiǎn)化人員參與過(guò)程；智能的控制及數(shù)據(jù)處理功能，為用戶(hù)提供更便捷可靠的試驗(yàn)操作和結(jié)果處理。
智能——搭載Labthink新版控制分析軟件，具有友好的操作界面、智能的數(shù)據(jù)處理、嚴(yán)格的人員權(quán)限管理和安全的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)；支持Labthink*的DataShieldTM數(shù)據(jù)盾系統(tǒng)注3（可選配置），為用戶(hù)提供極為安全可靠的測(cè)試數(shù)據(jù)和測(cè)試報(bào)告管理功能。
測(cè)試原理：
將預(yù)先處理好的薄型試樣的一面置于下測(cè)量面上，與下測(cè)量面平行且中心對(duì)齊的上測(cè)量面，以一定的壓力，落到薄型試樣的另一面上，同測(cè)量頭一體的傳感器自動(dòng)檢測(cè)出上下測(cè)量面之間的距離，即為薄型試樣的厚度。
參照標(biāo)準(zhǔn)：
ISO 4593、ISO 534、ASTM D6988、ASTM F2251、GB/T 6672、GB/T 451.3、TAPPI T411、BS 2782-6、DIN 53370、ISO 3034、ISO 9073-2、ISO 12625-3、ISO 5084、ASTM D374、ASTM D1777、ASTM D3652、GB/T 6547、GB/T 24218.2、FEFCO No 3、EN 1942、JIS K6250、JIS K6783、JIS Z1702
中國(guó)《藥品生產(chǎn)質(zhì)量管理規(guī)范》（GMP）對(duì)軟件的有關(guān)要求（可選配置）
測(cè)試應(yīng)用：
基礎(chǔ)應(yīng)用 薄膜、薄片、紙
擴(kuò)展應(yīng)用 金屬片、硅片、瓦楞紙板、紡織材料、非織造布、其它材料
技術(shù)參數(shù)：
C640M
測(cè)試范圍（標(biāo)配） 0～2mm
分辨率 0.1μm
重復(fù)性 0.8μm
測(cè)量范圍（選配1） 0～6mm
測(cè)量范圍（選配2） 0～12mm
測(cè)量間距 0～1000（可設(shè)定）mm
進(jìn)樣速度 1.5～80（可設(shè)定）mm/s
測(cè)量方式機(jī)械接觸式
測(cè)量壓力及接觸面積薄膜：17.5±1 kPa、50 mm2
紙張：100±1 kPa(標(biāo)準(zhǔn)配置) / 50±1 kPa（可選配置）、200 mm2
C640H
測(cè)試范圍（標(biāo)配） 0～2mm
分辨率 0.1μm
重復(fù)性 0.4μm
測(cè)量范圍（選配1） 0～6mm
測(cè)量范圍（選配2） 0～12mm
測(cè)量間距 0～1000（可設(shè)定）mm
進(jìn)樣速度 1.5～80（可設(shè)定）mm/s
測(cè)量方式機(jī)械接觸式
測(cè)量壓力及接觸面積薄膜：17.5±1 kPa、50 mm2
紙張：100±1 kPa(標(biāo)準(zhǔn)配置) / 50±1 kPa（可選配置）、200 mm2
外形尺寸：370mm（L）×350mm（W）×410mm（H）
凈重：26kg
濟(jì)南蘭光機(jī)電技術(shù)有限公司()擁有*的檢測(cè)技術(shù)與專(zhuān)業(yè)實(shí)驗(yàn)室，致力于為行業(yè)客戶(hù)提供全面、*的質(zhì)量控制解決方案，專(zhuān)業(yè)技術(shù)濟(jì)南蘭光！
