石墨烯研磨機(jī)，石墨烯新材料研磨分散機(jī)，新型能源研磨分散機(jī)，石墨烯研磨分散設(shè)備，新能源石墨烯研磨分散機(jī)，石墨烯高速研磨分散機(jī)，水性石墨烯研磨分散機(jī)，納米石墨烯復(fù)合材料研磨分散機(jī)，超細(xì)石墨烯高速研磨分散機(jī)
在新能源領(lǐng)域，石墨烯以其*的性能，越來越受關(guān)注，而在研究石墨烯的過程中，如何將石墨更好的細(xì)化，以及細(xì)化后團(tuán)聚問題的解決，成為目前研究的難點(diǎn)。
上海依肯CMD2000系列研磨分散機(jī)，可以很好的解決這兩個(gè)問題。CMD2000系列的膠體磨（錐體磨）+分散頭的組合，可以先將石墨混合物（配入溶劑和分散劑）研磨細(xì)化，然后再經(jīng)過分散頭，進(jìn)行分散。這樣既可以細(xì)化又可以避免團(tuán)聚的現(xiàn)象，為石墨烯行業(yè)提供了強(qiáng)有力的設(shè)備力量。 賈清清
IKN石墨烯研磨機(jī)采用德國先x的高速研磨分散技術(shù)，通過超高轉(zhuǎn)速（可達(dá)14000rpm）帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子（通常配CM+8SF，定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3mm之間）使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流，在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì)，從而得出超細(xì)的顆粒（當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。
CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。
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石墨烯研磨機(jī)在設(shè)計(jì)上的突出特點(diǎn)：
1、轉(zhuǎn)速14000rpm相較其它廠家2900轉(zhuǎn)左右高出約4-5倍：
2、磨頭結(jié)構(gòu)更精密并有*設(shè)計(jì),使之研磨作用力更大，效果更好。
3、德國進(jìn)口雙端面機(jī)械密封擁有*結(jié)構(gòu)和特殊材質(zhì)保證高速運(yùn)轉(zhuǎn)和長使用壽命。
4、CMD2000/5中試型研磨機(jī)與大型工業(yè)管線式量產(chǎn)機(jī)型配置基本相同。各種工作頭的種類及相應(yīng)線速度相同，中試過程中的工藝參數(shù)在工業(yè)化后之后不用重新調(diào)整，從而將機(jī)器型號(hào)升級(jí)到工業(yè)化的過程中的風(fēng)險(xiǎn)降到。 賈清清
研磨分散機(jī)的優(yōu)勢(shì)：
更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計(jì)理念，將先x的技術(shù)與創(chuàng)x的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中，為設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行提供了保證.
新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細(xì)度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力
更可靠 采用整體式機(jī)械密封，zui大程度上解決了高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題，安裝與更換方便快捷.
新技術(shù) 采用國x先x的受控切割技術(shù)，將纖維類物料粉碎細(xì)度控制在設(shè)定范圍之內(nèi)，滿足生產(chǎn)中的粗、細(xì)及超細(xì)濕法粉碎的要求.
從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn)：
1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）
2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好）
4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間（可以看作同等電機(jī)，流量越小效果越好）
5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。） 賈清清
線速度的計(jì)算：
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的
CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
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