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對于大多數(shù)物料食品化工醫(yī)藥來說,研磨粉碎只是其中一道工藝。在研磨粉碎均質(zhì)后將要進行噴霧干燥。把啞膜粉碎均質(zhì)后的漿料噴霧干燥提取里面zui有效核心的粉料。但對進噴霧干燥的漿料內(nèi)徑的大小有很大的關(guān)系,如果內(nèi)徑小將提取的效果將會更好高,假如漿料的內(nèi)徑比較大,噴霧還會抱團在一起,這樣就沒有多大的價值。采用上海依肯機械CMD系列超微濕法粉碎機出來的漿料D90都在5NM以上-10UM以下,這樣對噴霧提取有重大的效果。
噴霧前用研磨機是IKN(上海)公司經(jīng)過研究2013年研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
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1 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
2 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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磨分散機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 1000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 3000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD 2000/20 | 8000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 20000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 60000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 |
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。
3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數(shù),以便選型和定制。
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