分子篩漿料高速膠體磨，分子篩高分子高剪切膠體磨，分子篩高分子漿料研磨機，分子篩漿料高速剪切膠體磨，分子篩高分子研磨機，分子篩漿料膠體磨 ,氧化鋁高速膠體磨是是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定,轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力,摩擦力,高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化,分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化 分散 的效果。詳情請接洽上海依肯,段，手機，（同號)
分子篩漿料分子篩是指具有均勻的微孔,其孔徑與一般分子大小相當(dāng)?shù)囊活愇镔|(zhì)。分子篩的應(yīng)用非常廣泛,可以作高效干燥劑,選擇性吸附劑,催化劑,離子交換劑等,但是使用化學(xué)原料合成分子篩的成本很高。常用分子篩為結(jié)晶態(tài)的硅酸鹽或硅鋁酸鹽,是由硅氧四面體或鋁氧四面體通過氧橋鍵相連而形成分子尺寸大?。ㄍǔ?.3~2 nm）的孔道和空腔體系,因吸附分子大小和形狀不同而具有篩分大小不同的流體分子的能力。
漿料的淹沒效果分析
影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點
2 膠體磨磨頭頭的剪切速率 （越大,效果越好）
3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好）
4 物料在研磨腔體的停留時間,研磨粉碎時間（可以看作同等的電機,流量越小,效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好）
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線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素：
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
IKN納米膠體磨與國內(nèi)膠體磨的性能比較：
一,轉(zhuǎn)速和剪切速率：IKN納米膠體磨,可選擇德國機械密封,轉(zhuǎn)速可以達到15000轉(zhuǎn)F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1國內(nèi)膠體磨,可選擇機械密封一般3000轉(zhuǎn),大約在14293-215440S-1通過轉(zhuǎn)速比較可知,這是乳粉碎研磨的重要因素,相當(dāng)于前者是后者的2-3倍
二,膠體磨頭和間距：IKN納米膠體磨,可以選擇六種不同的模塊頭,實現(xiàn)多種功能,如三級乳化模塊,超高速模塊,CM膠體模塊,CMO膠體模塊,批次粉液液混合模塊,連續(xù)粉液混合模塊。間距可調(diào),可實現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工國內(nèi)膠體磨,只有一種模塊頭,粒徑細度有限,100微米以下較困難,重復(fù)性差
三,機械密封：IKN納米膠體磨,雙機械密封,易于清洗,將泄漏降至zui低,可24小時不停運轉(zhuǎn)國內(nèi)膠體磨,單機械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏進入馬達,造成馬達燒毀
磨具體設(shè)備咨詢：
定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。
②齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。
③溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
氧化鋁漿料膠體磨,分子篩漿料膠體磨 ,氧化鋁高速膠體磨
附件中是我公司物料的一部分性質(zhì),請根據(jù)物料性質(zhì),簡單判斷一下,大約需要做多少次試驗。
2,目前我公司輸送該物料用的是砂漿泵,非轉(zhuǎn)子泵。
3,我們的目的是用膠體磨把大于100微米的顆粒粉碎至50微米以下。
4,顆粒主要成分為硅鋁酸鹽,硬度較硬,但硬度我們沒有數(shù)據(jù)。
5,我們6月1日投產(chǎn),以后都有物料,可以進行試驗。
6,物料易沉淀,沉淀后很難重新混合。
的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機,但它對物料的適應(yīng)能力較強（如高粘度,大顆粒）,所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。
研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是：在粗精度,中等精度,細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù),狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設(shè)備等級：化工級,衛(wèi)生I級,衛(wèi)生II級,無菌級
電機形式：普通馬達,變頻調(diào)速馬達,防爆馬達,變頻防爆馬達,
電源選擇： 380V/50HZ,220V/60HZ,440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護,降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 ,SUS316L ,SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐,排污閥,變頻器,電控箱,移動小車
研磨分散機表面處理：拋光,耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭,螺口,夾箍
研磨分散機選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 3000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 8000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD 2000/20 | 20000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 40000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 120000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 | |||||
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。
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