納米ATO分散液高速剪切研磨分散機(jī)，ATO高剪切納米分散設(shè)備廠家，納米ATO高速分散機(jī),ATO高剪切分散機(jī),ATO高速高剪切分散機(jī)是是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的物質(zhì)的混合過(guò)程。工業(yè)分散的目標(biāo)是在連續(xù)相中實(shí)現(xiàn)“令人滿意的”納米精細(xì)分布。
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納米ATOTO(銻摻雜氧化錫)為多為灰白色-藍(lán)色粉體,具有耐化學(xué)性、耐酸、耐堿、耐光、耐有機(jī)溶劑、不氧化、阻燃、耐高溫、耐腐蝕、機(jī)械穩(wěn)定性好等特點(diǎn)。
:ATO(錫摻雜氧化錫)具有優(yōu)良的電學(xué)和光學(xué)性質(zhì).利用起良好的導(dǎo)電性,作為抗靜電劑廣泛應(yīng)用在涂料、化纖、高分子膜等領(lǐng)域,在耐活性、熱塑性、耐磨性、分散性、安全性等方面遠(yuǎn)好于其他抗靜電材料,如石墨、表面活性劑、金屬粉等，此外在光電顯示器件、透明電極、太陽(yáng)能電池、液晶顯示、催化等方面亦顯示其優(yōu)點(diǎn)。
用于平面液晶顯示（LCD），電子發(fā)光顯示（ELD），電子彩色顯示（ECD）；
2、 太陽(yáng)能電池透明電極；
3、 用于熱反射鏡，建筑物的玻璃幕墻起熱屏蔽作用，節(jié)省能源；
4、 在汽車、火車、飛機(jī)等交通工具的玻璃窗上形成防霧除霜玻璃；
5、 利用它對(duì)微波的衰減性，可用在計(jì)算機(jī)房、雷達(dá)屏蔽保護(hù)區(qū)等需要屏蔽電磁波的領(lǐng)域。
顆粒細(xì)化到納米級(jí)后，其表面積累了大量的正、負(fù)電荷，納米顆粒的形狀極不規(guī)則，這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加，當(dāng)降至1nm時(shí)，表面原子比例高達(dá)90%，原子幾乎全部集中到顆粒表面，處于高度活化狀態(tài)，導(dǎo)致表面原子配位數(shù)不足和高表面能。納米顆粒具有很高的化學(xué)活性，表現(xiàn)出強(qiáng)烈的表面效應(yīng)，很容易發(fā)生聚集而達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài)，從而團(tuán)聚發(fā)生
納米ATO分散液高速剪切研磨分散機(jī)，ATO高剪切納米分散設(shè)備廠家，納米ATO高速分散機(jī),ATO高剪切分散機(jī),ATO高速高剪切分散機(jī)
目前，國(guó)內(nèi)產(chǎn)品質(zhì)量較好的企業(yè)使用的分散方式主要采取一步法的高速剪切分散，能基本滿足用戶的需要。由于我們行業(yè)的特點(diǎn)，有相當(dāng)多的中小企業(yè)分散設(shè)備十分落后，分散時(shí)根本形成不了剪切力，只是一種攪拌，氣相二氧化硅在樹(shù)脂中根本形成不了網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，從而無(wú)法發(fā)揮材料的性能。造成這種情況的主要原因① 尚未對(duì)分散的作用有正確的認(rèn)識(shí)．許多生產(chǎn)商并未意識(shí)到分散的重要性；② 不知道對(duì)***終產(chǎn)品的品質(zhì)如何評(píng)價(jià)，
高的轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是***重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，依肯公司在ER2000系列的基礎(chǔ)上又開(kāi)發(fā)出ERS2000超高速分散機(jī)。其剪切速率可以超過(guò)100.00 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng)粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無(wú)需其他輔助分散設(shè)備。
影響分散乳化均質(zhì)結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
1 分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）
2 分散頭的剪切速率 （越大，效果越好）
3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）
4 物料在分散墻體的停留時(shí)間，乳化分散時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）
線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
超高速分散機(jī)的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是***重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，依肯公司在ERS2000系列的基礎(chǔ)上又開(kāi)發(fā)出ERX2000超高速剪切分散機(jī)。其剪切速率可以超過(guò)200.00 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到66m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng)，乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無(wú)需其他輔助分散設(shè)備,可以達(dá)到普通的高壓均質(zhì)機(jī)的400BAR壓力下的顆粒大小.
超高速分散機(jī)是高效、快速、均勻地將一個(gè)相或多個(gè)相(液體、固體)進(jìn)入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過(guò)程的設(shè)備的設(shè)備。當(dāng)其中一種或者多種材料的細(xì)度達(dá)到微米數(shù)量級(jí)時(shí)，甚至納米級(jí)時(shí)，體系可被認(rèn)為均質(zhì)。當(dāng)外部能量輸入時(shí)，兩種物料重組成為均一相。高剪切均質(zhì)機(jī)由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機(jī)械效應(yīng)帶來(lái)的強(qiáng)勁動(dòng)能，使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強(qiáng)烈的機(jī)械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液（固/液），乳液（液體/液體）和泡沫（氣體/液體）。高剪切均質(zhì)機(jī)從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)熟工藝和適量添加劑的共同作用下，瞬間均勻精細(xì)的分散乳化，經(jīng)過(guò)高頻管線式高剪切分散均質(zhì)乳化機(jī)的循環(huán)往復(fù)，***終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。
超高速分散機(jī)設(shè)備等級(jí)：化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
超高速分散機(jī)電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、氣動(dòng)馬達(dá)
超高速分散機(jī)電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
超高速分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti
超高速分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理
超高速分散機(jī)進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
超高速分散機(jī) | 標(biāo)準(zhǔn)流量（H2O） | 輸出轉(zhuǎn)速 | 標(biāo)準(zhǔn)線速度 | 馬達(dá)功率 | 進(jìn)出口尺寸 |
型號(hào) | l/h | rpm | m/s | kW |
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ERX 2000/4 | 700 | 20000 | 66 | 2.2 | DN25/DN15 |
ERX 2000/5 | 1,500 | 15,750 | 66 | 7.5 | DN40 /DN 32 |
ERX 2000/10 | 5,000 | 10,950 | 66 | 22 | DN50 / DN50 |
ERX 2000/20 | 10,000 | 7,300 | 66 | 37 | DN80 /DN 65 |
ERX 2000/30 | 30,000 | 4,000 | 66 | 75 | DN150 /DN 125 |
ERX 2000/50 | 50,000 | 3,000 | 66 | 160 | DN200 /DN 150 |
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1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和***終產(chǎn)品的要求。
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