三級納米管線式核糖高剪切均質(zhì)機，核糖高剪切研磨均質(zhì)機，卡介多糖核酸注射液管線式高剪切均質(zhì)機，CIK高剪切研磨均質(zhì)機采用德國*的研磨與均質(zhì)技術(shù)，設(shè)備將CIK*的膠體磨技術(shù)與CIK*的超高速均質(zhì)乳化技術(shù)做了精密的結(jié)合，在保證轉(zhuǎn)速zui高達到14000rpm的技術(shù)上，將工作部件定轉(zhuǎn)子間隙無限做小，目前極限值可以達到0.2mm（傳統(tǒng)技術(shù)做到0.5mm定轉(zhuǎn)子間就會發(fā)生摩擦），并且可以保證定轉(zhuǎn)子在14000rpm運行的情況下不發(fā)生摩擦，這樣就大大提高了設(shè)備的剪切速率，可以將類似于馬鈴薯的原料藥打的特別細，原料藥研磨的越細、均質(zhì)化越好，中間體藥顏色就越白，這樣多糖核酸的提取率就越高，浙江某大型藥企集團，利用CIK高剪切研磨均質(zhì)機可以多糖核酸提取率提高至70-80%，而傳統(tǒng)工藝采用的是超聲波均質(zhì)機，提取率只能維持在百分之30-40%之間。
價格電議，咨詢請聯(lián)系，公司有樣機可供客戶實驗，歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)！CIK銷售工程師會根據(jù)客戶具體需求做適當(dāng)?shù)脑O(shè)備選型，以及根據(jù)流量做型號相應(yīng)放大
高剪切研磨分散機采用了二級處理結(jié)構(gòu)，*級采用了高剪切膠體磨的磨頭模塊，第二季采用了高剪切分散乳化機的分散乳化模塊，第二級模塊可根據(jù)客戶對物料的處理要求開配定轉(zhuǎn)子，定轉(zhuǎn)子可配2P、2G、4M、6F、8SF，且定轉(zhuǎn)子精密度都達到了水平。
三級納米管線式核糖高剪切均質(zhì)機是 CIK（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們 將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。磨頭下面的膠體磨可根據(jù)物 料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。
研磨分散機工作原理：研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外 部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有 效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。
研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機，但它對物料的適應(yīng)能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。
研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因 為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別 是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來 滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
NKD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精 細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
膠體磨 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
NKD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
NKD 2000/5 | 1000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
NKD 2000/10 | 200 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
NKD 2000/20 | 5000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
NKD 2000/30 | 8000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
NKD2000/50 | 15000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 | |||||
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產(chǎn)品的要求。
3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準(zhǔn)確的參數(shù)，以便選型和定制。
4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實物為準(zhǔn)。
5 本系列機型具有短程送料能力，無自吸功能，須選用高位進料；物料粘度或固含量高導(dǎo)致不能正常進料和輸送時，須選用壓力或輸送泵進料或送料，輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。
三級納米管線式核糖高剪切均質(zhì)機信息來源于www.ciksh。。ｃｏｍ
